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1.
IC制造中清洗技术发展的分析   总被引:2,自引:2,他引:0  
盛金龙 《半导体技术》2006,31(3):166-169
概述了半导体制造中清洗技术所面临的挑战及生产中存在的问题,分析了解决问题的途径,讨论了当前IC制造中关键清洗技术的发展方向.对于国产清洗设备制造业的发展提出了自己的看法.  相似文献
2.
集成电路产业的飞速发展在为半导体新设备带来市场的同时,也为二手半导体设备提供了舞台.二手半导体设备因其价格优势在我国集成电路行业日渐活跃.  相似文献
3.
近年来,我国集成电路产业发展速度举世瞩目,并呈现稳定增长势头.椐一家美国集成电路行业调查公司IC Insights发布的调查报告显示:中国将在今年成为最大的集成电路市场.今年市场总额为343亿美元,到2010年中国集成电路市场总额将达950亿美元.  相似文献
4.
七星华创电子股份有限公司是北京市认定的高新技术企业.公司建立了较为完善的技术研发体系,已形成了以技术中心为主体的新品、工艺研究开发体系.公司共有员工总数1200多人,其中工程技术人员440余人.  相似文献
5.
本文简要介绍了适用于8英寸硅片、能够进行扩散、氧化、退火、合金等工艺的立式扩散氧化炉的研制目的、技术路线、关键部件及技术难点.重点介绍了加热炉体及其温度控制、储片台、颗粒控制及设备含氧量的设计及控制.  相似文献
6.
对于大批量生产和处理一致性以及精确控制的工艺要求,连续炉是理想的。详述了一些新式的连续炉温度和性能并介绍了一种不同元件组成的连续炉。根据炉子工艺技术,经济因素和零件质量因素的影响决定了是采用一个连续式炉还是批装式炉。  相似文献
7.
介绍了适用于太阳能电池生产线闭管磷扩散设备,着重阐述了该设备的结构组成、工艺原理及控制。  相似文献
8.
介绍了一种用于太阳能行业淀积氮化硅薄膜的等离子增强化学气相淀积设备,叙述了该设备的结构组成,并重点阐述了工艺原理及关键技术的改进。  相似文献
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