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彩色膜上ITO的室温沉积及其在FPD中的应用   总被引:11,自引:4,他引:7  
使用直流磁控溅射技术,在彩色膜衬底上室温制备出粘附性良好的氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜。X光衍射(XRD)和原子力显微(AFM)分析表明,室温ITO为多晶态,薄膜具有很好的透过率和良好的导电特性,方块电阻为120Ω/□,对应ITO/彩色膜复合膜在450nm的蓝(B)光、530nm的绿(G)光、630nm的红(R)光处的峰值透过率均达到85%左右。彩色膜与ITO电极的形成及联接等加工工艺有良好的相容性。对该技术在彩色液晶显示(LCD)和彩色有机发光显示(OLED)中的应用,进行了探索。  相似文献   
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