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检索中国国家知识产权局受理且公开的航天运输系统专利申请,分析国内外企业在中国的专利申请态势,研究国内外企业在中国的技术比较优势演变,提出了中国航天运输系统发展的思考. 相似文献
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针对目前宇航产品知识产权保护存在的问题,基于产品知识产权保护策略相关的理论研究(包括知识产权保护方式、专利布局策略、充分专利保护等研究)和国内外典型宇航产品(Ariane 5和CZ-7)知识产权保护策略的案例研究,分析并总结提出航天企业宇航产品知识产权保护的通用原则及方法. 相似文献
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Labview软件控制腐蚀条件,用脉冲电化学腐蚀法制备多孔硅薄膜,其表面形貌用原子力显微镜观察并分析。用可见-紫外分光光度仪测量其反射谱,通过计算得出各种制备条件下,多孔硅薄膜的其它光学参数,即有效折射率neff,吸收系数α,有效介电常数的实部εer和虚部εei,消光系数K。研究了入射光波长和孔隙率对这些光学常数的影响。 相似文献
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针对世界武器贸易现状,重点研究了美国、俄罗斯、英国、法国以及德国5个国家2005-2009年武器出口情况及其市场分布情况,总结了五国武器贸易的特点与规律,并在此基础上对未来世界武器贸易趋势进行了预测. 相似文献
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采用正交实验,直流电化学腐蚀法制备多孔硅。用原子力显微镜对表面进行观察,研究电化学腐蚀参数对其表面形貌的影响。氢氟酸浓度(CHF)升高,使临界电流密度(JPS)增大,有利于多孔硅的形成。电流密度(J)增大,多孔硅的孔隙率和孔径随之变大,而其纳米粒径将变小。腐蚀时间(t)越长,孔径越大,孔越深。 相似文献
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Labview软件控制腐蚀条件,用脉冲电化学腐蚀法制备多孔硅薄膜,其表面形貌用原子力显微镜观察并分析。用可见-紫外分光光度仪测量其反射谱,通过计算得出各种制备条件下,多孔硅薄膜的其它光学参数,即有效折射率neff,吸收系数α,有效介电常数的实部εer,和虚部εei,消光系数K,研究了入射光波长和孔隙率对这些光学常数的影响。 相似文献
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