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光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作 总被引:1,自引:0,他引:1
针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入伤反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体应用。实验结果表明,这一新工艺的突出优点是降低了苛刻的全息曝光、显影要求,使得光栅线条光滑、线空比和槽深可控。 相似文献
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离子束刻蚀位相型Ronchi光栅研究 总被引:2,自引:0,他引:2
本文报道了采用紫外光刻和离子束刻蚀方法制作位相型Ronchi光栅的工艺技术,并对其衍射特性进行了讨论,同时给出实验结果。 相似文献
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总结了常用大型非球面光学元件轮廓检测方法及其特点。详细阐述了用于同步辐射光学元件检测的长程面形仪的基本原理、发展阶段、关键技术、误差补偿、现状及发展方向。并介绍了合肥国家同步辐射实验室长程面形仪的进展。 相似文献
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成功地研制了将软X射线引入大气中的氮化硅窗口。根据具体数据,对大气环境下软X射线接触成像的水窗软X射线衰减进行了估算;给出成像实验结果并观察到了氮化硅膜上的微粒图像叠加在样品图像上的现象。所得结果与理论估算相一致。即使用3.2nm的软X射线时,同一样品在大气环境中所需的曝光量约为真空中的两倍。这些结果将十分有益于大气环境下的软X射线接触显微术及软X射线扫描透射显微术的研究。 相似文献
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在简述软X射线的自支撑透射光栅制作工艺的基础上,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺,紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小,厚度减薄,比较了两个不同电镀条件下的电镀实验结果,结果表明低的温度和电流密度(40℃,1.5mA/cm^2)下的镀膜致密,光滑,应力小,对光栅结构无任何影响,高的温度和电流密度(47℃,5.6mA/cm^2)下的镀膜相对粗糙,应力大,造成光栅线条的扭曲,并拢,甚至拉断光栅线条。 相似文献