首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   9篇
  免费   0篇
无线电   8篇
冶金工业   1篇
  2000年   2篇
  1999年   1篇
  1997年   1篇
  1996年   1篇
  1995年   2篇
  1994年   1篇
  1991年   1篇
排序方式: 共有9条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1
1.
MOCVD外延碲镉汞薄膜的生长工艺选择   总被引:2,自引:0,他引:2  
金属有机化合物汽相沉积(MOCVD)技术是制备用于红外焦平面阵列(IRFFPA)的高质量碲镉汞(HgCdTe)薄膜材料的重要手段。文中讨论了汞源温度、生长温度、衬底材料及互扩散多层工艺(IMP)等因素在MOCVD外延生长碲镉汞薄膜过程中的作用机理,并选择适合的生长条件获得了质量优良的碲镉汞薄膜。  相似文献   
2.
本文介绍一种经改进的采用加速坩埚旋转技术的Bridgman方法(ACRT-B)及ACRT-B用于生长MCT晶体得到的重要结果。与传统Bridgman方法生长的晶体相比,ACRT-B生长的晶体的径向组份均匀性得到很大改善;有用组份的晶片较多;晶体的结晶度好;主晶粒数目减少。ACRT-B工艺中,影响晶体质量最重要的旋转参数是最大旋转速率,而保持在最大旋转速率的时间和停止时间及反向旋转对结果的影响都很小。  相似文献   
3.
刘朝旺 《红外技术》1996,18(5):11-14
报道用XPS研究Cd1-yZnyTe衬底经机械抛光后和化学抛光后的表面化学配比和表面结构。MgO粉机械抛光后,表面为富Cd层,溴乙醇溶液化学抛光后,表面为贫Cd层;2-4.5kvAr^+溅射表面不导致元素的择优溅射,表面化学配比接近用电镜测量所得的体内组份值。  相似文献   
4.
用XPS研究了多晶纯镉置于空气中形成的表面化学态。结果表明,Cd表面上除有大量吸附碳、氧外,还形成了CdO和Cd(OH)2。O1s谱的最佳曲线拟合表明有三个O1s分量存在,其结合能分别为532.7eV,529.6eV,531.3eV。他们分别是吸附氧,CdO和Cd(OH)2中O1s的特征。本文推断Cd先与O2反应生成CdO,再在水汽作用下形成Cd(OH)2,表面形成的CdO和Cd(OH)2薄层阻挡  相似文献   
5.
通过优化GaAs表面制备工艺、反应管清洁处理工艺、GaAs表面预处理工艺、生长条件及优选GaAs衬底方向等措施,在水平与常压MOVPE装置中,用二乙基锌(DEZn)、二甲基镉(DMCd)、二异丙基碲(DiPTe)和元素汞,采用互扩散多层工艺(IMP),在GaAs衬底上生长出了MCT/CdTe/GaAs,比较了采用优化工艺前后薄膜的电子显微镜形貌相,表明采用优化工艺后薄膜的表面形貌有了明显改进。  相似文献   
6.
用XPS对CdTe(111)面进行化学特性分析   总被引:2,自引:1,他引:1  
用XPS化学位移和定量分析方法,研究了露于室温空气中的CdTe(111)面的化学特征。首次报道了经机械抛光表面上形成的表面化合物为TeO2(Te3d5/2575.8eV,O1s530.1eV)和Cd(OH)2(Cd3d5/24051eV.O1s531.4eV)。并与基体里的CdTe共存;经2%Br-乙醇溶液化学抛光,表面上形成的化合物为CdTeO4(Cd3d5/2405.3eV,Te3d5/25765eV,O1s531.2eV)和TeOx(x<1)(Te3d5/2574~575eV,O1s5281eV),并且XPS谱中没有基体里的CdTe的特征,其中TeOX为Te氧化物的过渡态。结果表明,在相同氧化环境中,表面上形成的化合物强烈依赖表面状况。  相似文献   
7.
碲镉汞薄膜的有机金属化合物汽相外延生长   总被引:5,自引:0,他引:5  
利用水平,常压有机金属化合物汽相外延(MOVPE)装置,DMCd,DIPT及元素汞在360℃,采用互扩散多层工艺,通过计算机控制,在GaAs,CdTe衬底上按不同条件生长碲化镉,碲化汞和碲镉汞的初步结果,包括组分,表面形态,薄膜厚度,红外透射比和电学特性等,其中有原生的和经过一定条件退火处理的结果。  相似文献   
8.
报道了在水平、常压MOVPE实验型生产装置中,采用互扩散多层工艺(IMP),用金属有机化合物DMCd、DiPTe和元素Hg,在CdTe和GaAs衬底上生长的HgCdTe薄膜,其组分和薄膜厚度的均匀性以及p型电学性质,初步达到了目前红外焦平面列阵研制的要求,同时,这种薄膜的生长具有一定重复性。  相似文献   
9.
用XPS进行镉的表面化学研究刘朝旺(昆明物理研究所昆明650223)制作本征Hg_(1-x)Cd_xTe单晶,需要使用高纯源材料Hg,Cd,Tc和高纯生长管,还要避免各个工艺中的污染,如避免源材料表面氧化等。根据经验,氧化物在拉晶过程中很容易与石英管...  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号