硫酸渣的开发利用

硫酸渣的开发利用与资源、环境、经济问题密切相关 ,具有较好的社会效益和经济效益 ,以及重大的现实意义。为此 ,提出了硫酸渣合理的开发利用途径     

脉冲偏压占空比对电弧离子镀TiAlN涂层的影响

通过优化电弧离子镀工艺参数改善TiAlN涂层结构及性能对TiAlN涂层应用具有重要的实用价值。本文利用脉冲偏压电弧离子镀制备了TiAlN涂层,研究了偏压占空比对TiAlN涂层结构及性能的影响,结果发现：随着占空比增加,涂层表面缺陷密度和表面粗糙度先降低后增大,占空比为70%时,制备的涂层表面缺陷密度和表面粗糙度最低。随着占空比增加,涂层的硬度和耐磨性得到明显改善,但占空比超过50%后继续增加占空比反而降低了涂层的硬度和耐磨性。TiAlN涂层与Si3N4球对磨时的主要磨损机制为黏着磨损和氧化磨损。     

多组分缓冲层W梯度掺杂DLC复合薄膜研究

用离子束辅助非平衡中频磁控溅射技术, 在Si, 高速钢或不锈钢基体上分别沉积得到了具有多组分过渡金属层缓冲的W梯度掺杂类金刚石碳(DLC)膜, 研究了W靶电流对DLC膜组成、结构和性能的影响. 实验表明, 随着W靶电流增大, 薄膜中W掺杂量增加, W的碳化物含量增加, sp³结构含量减少; 薄膜的纳米硬度和弹性模量逐渐增大, 且材料抗塑性参数H/E随之增大; 随W靶电流增大, 材料与基体结合力增强, 划痕实验临界载荷在80-100 N之间, 材料摩擦系数增大; 但磨损率因W掺杂而明显减小, 且随W靶电流增大而减小. 样品表面元素分布均匀, 粗糙度(R_a)较小, R_a值在7.56-15.8 nm之间.     

Bi2O3与Sb2O3掺杂对ZnO力学性能的影响

设计、制备了三个系列(不同Bi2O3与Sb2O3掺杂浓度)的ZnO基复合材料.力学性能测试的结果表明,Bi含量(2%,原子分数)保持不变,随Sb含量(在合适的剂量范围内)的增大,由于基质ZnO晶粒减小,陶瓷致密度增大,所得材料的模量、抗弯强度以及断裂韧性均增大;Sb含量(3%,原子分数)保持不变,随Bi含量的增大,由于基质ZnO晶粒增大、陶瓷致密度减小,所得材料的模量、抗弯强度以及断裂韧性均减小.在设计组成范围内材料的最佳力学性能约为:弹性模量114 GPa,弯曲模量115GPa,抗弯强度 120 MPa,断裂韧性1.87 MPa·m1/2.     

高硫锰矿脱硫的试验研究

阐述了高硫锰矿对富锰渣高炉冶炼的危害，以及开发利用的迫切性。针对高硫锰矿的矿相结构、还原和氧化气氛及GTO法块状颗粒料脱硫进行了试验研究，结果表明：高硫锰矿的脱硫效果不仅与脱硫工艺方法及温度有关，而且还与某一高温下的停留时间有关，采用GTO法脱硫，突破了国内外利用高硫锰矿块状物(8～40mm)进行脱除高S的瓶颈，取得了突破性的脱硫效果，GTO法脱硫率达91．88％，达到了富锰渣高炉冶炼的入炉要求。     

氮化硅陶瓷刀具表面涂覆高硬耐磨氮化钛涂层研究

用高能量密度脉冲等离子体于室温下在氮化硅陶瓷刀具上成功沉积了高硬耐磨的氮化钛涂层。薄膜厚度用光学显微镜和俄歇电子能谱仪测定，薄膜元素和相组成与分布分别用俄歇电子能谱仪、X光电子能谱以及X光衍射仪测定，薄膜微观结构用扫描电镜观察，薄膜表面粗糙度用光学显微镜测定，薄膜力学性能由纳米压痕实验和纳米划痕实验确定，薄膜的磨损性能用上业条件下的切削实验评价。实验结果表明，在最优化条件下，涂层与基体的结合力很好，纳米划痕实验临界载荷达80mN以上；氮化钛涂层具有很高的硬度和杨氏模量，分别达28GPa和350GPa以上。涂层刀具用于HB达2200MPa—2300MPa的HT250钢切削实验表明，刀具耐磨损能力增强，寿命明显提高。     

高能量密度脉冲等离子体同轴枪制备Ti(C,N)薄膜研究

用高能量密度脉冲等离子体同轴枪分别在硬质合金和氮化硅陶瓷刀具基体上沉积了Ti(C，N)薄膜，研究了各种因素对薄膜相转化的影响，通过XRD分析，最后得到合适的Ti(C，N)薄膜沉积工艺条件是：枪压3．5kV，同轴枪与试样间距30～40mm，氮气进气压力0．2MPa，电磁阀电压1．5kV，脉冲等离子轰击次数5次以上。     

竖炉球团新型二次冷却器的设计与应用

针对国内竖炉球团矿二次冷却的应用现状,提出其存在问题,介绍济钢球团1#竖炉采用新型二次冷却器的设计特点,冷却原理及应用效果.     

0.76m浮选柱内轴向反向混合的研究

加拿大ＣＡＮＭＥＴ的西部研究中心的直径为０．７６ｍ的半工业浮选柱内的液相混合是用盐示踪物来描述其特征的。所研究的工艺变量是起泡剂的添加量以及气体和液体流速。浮选柱对示踪物脉反应三个轴向位置和二个径向位置进行检测。结果表明：处理量２ｔ／ｈ的浮选柱混合很好。讨论了此研究对浮选柱进行以及按比例放大的意义。