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1.
针对滨里海盆地东缘的扎纳若尔油田东海三维区块的地下地质特点.采用了基于处理叠加速度谱的射线追踪法进行速度场建立和变速成图。该法利用计算机模拟野外观测系统,将地下介质抽象为倾斜层状均匀介质.按实际的覆盖次数和炮检距。根据最小走时费马原理,用带炮检距的射线追踪方法,求出初始层速度模型;再根据最小二乘原理,将计算出的叠加速度与对应谱点的实际叠加速度比较.得到与叠加速度匹配最好的层速度;依此逐点逐线计算,最终获得整个工区的层速度模型。经过2006年的实际应用,在该区块重新落实了构造,并在该构造高部位设计了A3和A4两口井,其中A3井已完钻,目的层KT-Ⅰ和KT-Ⅱ顶界分层与设计分层误差分别为6m和7m.并在这两段地层中见到油气显示。 相似文献
2.
铸造过程补缩机理及其数学模型 总被引:5,自引:0,他引:5
通过对铸造合金凝固过程补缩现象的分析,以流体力学理论为依据,建立了描述铸造合金凝固过程中补缩现象的数学模型。通过对公式各参数的分析、对比,比较了各种铸造方法补缩能力的强弱,提出了影响补缩的主要工艺参数,并指出了工艺设计过程中应注意的问题。 相似文献
3.
激光金属沉积(LMD)是一种应用广泛的金属增材制造技术,可以快速成形复杂的结构件。以TA15钛合金粉末为原材料,采用激光金属沉积技术成形了TA15工字梁缩比件,进行了LMD TA15钛合金工字梁试样的疲劳试验和失效分析,研究了LMD TA15钛合金材料和结构的疲劳性能。对4件试样在应力比为0.06,载荷峰值为80%静力破坏载荷的交变载荷下进行四点弯曲疲劳试验,受成形缺陷影响,试样出现混合失效模式:两件试样无明显缺陷,裂纹形态为受拉缘条角裂纹,两件试样为内部气孔缺陷诱发失效,裂纹形态为受拉缘条半椭圆裂纹。起裂位置与缺陷和应力水平有关,存在明显的差异。为阐明试样疲劳失效行为,进行了有限元分析,获得起裂位置的应力水平,分析了缺陷和应力水平对疲劳寿命的影响。结果表明,缺陷是影响试样疲劳性能的主导因素,缺陷降低疲劳寿命50%以上,对于无明显缺陷试样,试样的疲劳行为受到应力水平控制。 相似文献
4.
5.
M2高速钢强脉冲离子束表面改性及其耐磨耐蚀性 总被引:1,自引:0,他引:1
针对陶瓷梯度涂层性能优良,在大气氛围下等离子喷涂制备涂层会受到空气氧化这一情况,在可控气氛(Ar气)中采用等离子喷涂的方法制取了NiCrBSi/Al2O3的梯度涂层,并且与大气条件下制取的NiCrBSi/Al2O3的梯度涂层进行对比.借助扫描电子显微镜(SEM)、x 射线衍射仪(XRD)对涂层的组织分布、相结构进行分析.结果表明:在Ar气和大气中梯度涂层的组织内部都没有明显的界面,实现了组织的连续变化;在Ar气中制取的梯度涂层的组织更加致密,被氧化的程度更低,质量更好. 相似文献
6.
7.
利用扫描电镜(SEM)、台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)、显微硬度仪对W6Mo5Cr4V2钢经强流脉冲离子束(HIPIB)辐照前后试样的表面形貌、粗糙度、表层的组织结构及硬度进行了分析,探讨了"熔坑"和硬度"多峰"态形成的原因.结果表明,试样表面粗糙度随辐照次数的增加有所减小;辐照过程使该钢体心立方的马氏体α'-Fe向面心立方的奥氏体γ-Fe转变,碳化物溶解,马氏体溶碳量增大且晶粒细化,点阵畸变度增大,使W6Mo5Cr4V2钢表面硬度有较大的提高. 相似文献
8.
采用俄罗斯UVN 0.5D2I脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备,在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiAlN膜层。研究了膜层沉积之前N离子束轰击基材以及膜层沉积过程中N离子束辅助轰击对TiAlN膜层显微硬度的影响。结果表明:膜层沉积之前,N离子轰击得到高度洁净的表面,使基材的显微硬度由原来的900HV0.01提高到1230HV0.01。膜层沉积过程中,脉冲N离子束轰击,消除了膜层中的硬度"软点"及阴影效应,增加(Ti,Al)N相的含量,膜层的内部产生了压应力,这些因素显著提高了膜层的硬度,膜层的最高硬度为2530HV0.01。但轰击能量不能过高,否则会降低膜层的显微硬度。 相似文献
9.
通过对变压器纵差保护及发电机逆功率保护不正确动作原因的分析,提出了提高发电机变压器保护动作可靠性的措施,即保证二次回路、良好构成逻辑简单及整定值合理等. 相似文献
10.
电弧离子镀制备TiAlN膜工艺研究 总被引:5,自引:0,他引:5
采用阴极电弧离子镀技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢基材上制备TiAlN膜层,镀膜装置为俄罗斯科学院UVN 0.5D2I电弧离子镀膜机,该设备由一个大功率的气体离子源和两个金属蒸发源组成.气体离子源具有气体离子轰击和辅助沉积的特点.研究了电弧电流、负偏压和气体离子源功率等工艺参数对膜层的影响规律.实验结果表明:气体离子源具有明显的细化金属颗粒的作用.提出了制备TiAlN膜层的最佳工艺,得到了厚度为5 ~10μm、相结构为Ti0.5Al0.5N、显微硬度为1200HV0.01的TiAlN膜层. 相似文献