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1.
利用直流磁控溅射法在室温玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锰氧化锌(ZnO:Mn)透明导电薄膜.实验制备的ZnO:Mn为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有垂直于衬底方向的c轴择优取向.实验结果表明,靶与衬底之间的距离对ZnO:Mn薄膜的生长速率、残余应力及电学性能有很大影响,而对薄膜的晶粒尺寸和光学性能影响不大.考虑薄膜的电学、光学及力学性能,认为靶与衬底之间的最佳距离为7.0 cm.在此条件下制备的ZnO:Mn薄膜的电阻率达到4.2×10-4 Ω·cm,可见光透过率为86.6%,丽残余应力仅为-0.025 GPa.  相似文献   
2.
直流磁控溅射法制备ZnO:W透明导电薄膜及其性能表征   总被引:3,自引:3,他引:0  
利用直流磁控溅射法成功地在室温玻璃衬底上制备出了电阻率低、透光率高的掺钨氧化锌(ZnO:W)透明导电薄膜。沉积压强在12-21 Pa之间变化。X射线衍射结果表明实验制备的ZnO:W为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,具有垂直于衬底方向的c轴择优取向。沉积压强对ZnO:W薄膜的晶化程度、形貌和电阻率有很大影响,而对其透光率和光学带隙及折射率影响不大。当沉积压强为21 Pa,溅射功率为130 W时,所制备薄膜的电阻率达到最小值1.5×10-4 Ω·cm,其方块电阻、可见光透过率分别为6.8 Ω/□和91.3%。  相似文献   
3.
Tungsten-doped zinc oxide(ZnO:W) films with low resistivity and high transmittance were successfully deposited on glass substrates by direct current magnetron sputtering at low temperature.The deposition pressure is varied from 12 to 21 Pa.The X-ray diffraction results show that all of the deposited films are polycrystalline and have a hexagonal structure with a preferred c-axis orientation.The crystallinity,morphologies and resistivity of ZnO:W films greatly depend on deposition pressure while the optical properties including optical transmittance, optical band gap as well as refractive index are not sensitive to deposition pressure.The deposited films with an electrical resistivity as low as 1.5×10-4Ω·cm,sheet resistance of 6.8Ω/□and an average transmittance of 91.3% in the visible range were obtained at a deposition pressure of 21 Pa and sputtering power of 130 W.  相似文献   
4.
利用直流磁控溅射法在室温玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锰氧化锌(ZnO∶Mn)透明导电薄膜。实验制备的ZnO∶Mn为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有垂直于衬底方向的c轴择优取向。实验结果表明,靶与衬底之间的距离对ZnO∶Mn薄膜的生长速率、残余应力及电学性能有很大影响,而对薄膜的晶粒尺寸和光学性能影响不大。考虑薄膜的电学、光学及力学性能,认为靶与衬底之间的最佳距离为7.0 cm。在此条件下制备的ZnO∶Mn薄膜的电阻率达到4.2×10-4Ω.cm,可见光透过率为86.6%,而残余应力仅为-0.025 GPa。  相似文献   
5.
6.
本文在简介Windows Media技术的基础上,结合实际简述了Windows Media服务器的安装、ASF文件的制作以及"点播单播发布点"、"广播单播发布点"、"多播广播站"的创建方法,并通过网页链接的方式进行了相关测试,从实践角度阐述了在网络中实现流媒体服务的技术和方法。  相似文献   
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