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首先分析了在制作GaN基LED时,采用干法刻蚀技术会对材料的表面和量子阱有源区造成损伤,影响了GaN基LED的内量子效率。针对这个问题,研究实验采用感应耦合等离子反应刻蚀(ICP-RIE)技术,分别选择了氯气/三氯化硼(Cl2/BCl3)气体体系和氯气/氩气(Cl2/Ar)气体体系,通过优化射频功率、ICP功率、气体流量以及相应的真空度,得到了良好的刻蚀端面,对于材料造成的损伤较低,得到更好的I-V特性。实验结果表明,采用低损伤的偏压功率刻蚀后制作的LED器件,出光功率提升一倍以上,同时采用Cl2/Ar气体体系,改善了器件的I-V特性,有效提高了LED的出光效率。 相似文献
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报道了基于SOI (silicon-on-insulator)材料的光波导和集成波导光开关矩阵的最新研究进展. 给出了截面为梯形的脊波导的单模条件,设计制备了MMI (multimode interference)集成耦合器和基于Mach-Zehnder光波导干涉仪的热光型2×2光开关,开关转换速度达到了5~8μs,驱动功耗仅为140mW,是当前国际上同类型光开关中转换速度最快的. 在此基础上制备成功了4×4波导光开关矩阵,并实现了光信号在不同信道间的转换. 相似文献
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在制作TIO/O-PPV/CuPc/Alq3/Al器件结构中,我们对可溶性PPV衍生物2-甲氧基-5-壬氧基-聚对苯乙炔(O-PPV)薄膜进行两种方法处理即:真空干燥和未干燥。结果发现,在加相同脉冲电压下(12V),经真空干燥的器件的电致发光光谱主要来自O-PPV发光;未经干燥的器件,由于空穴和电子复合区域的变化Alq3发光比例有大幅度的提高,这表明,O-PPV中残余溶剂存在,薄膜中的空载流子迁移能力比干燥的薄膜有较大的提高,电子和空穴复合区域发生变化。 相似文献
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A lithography-independent and wafer scale method to fabricate a metal nanogap structure is demonstrated. Polysilicon was first dry etched using photoresist (PR) as the etch mask patterned by photolithography. Then, by depositing conformal SiO2 on the polysilicon pattern, etching back SiO2 anisotropically in the perpendicular direction and removing the polysilicon with KOH, a sacrificial SiO2 spacer was obtained. Finally, after metal evaporation and lifting-off of the SiO2 spacer, an 82 nm metal-gap structure was achieved. The size of the nanogap is not determined by the photolithography, but by the thickness of the SiO2. The method reported in this paper is compatible with modern semiconductor technology and can be used in mass production. 相似文献
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