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GaN的MOVPE生长和m-i-n型蓝光LED的试制 总被引:1,自引:0,他引:1
利用自行研制的常压MOVPE设备和全部国产MO源,采用低温生长缓冲层技术,在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上获得了高质量的GaN外延层。未掺杂的GaN外延层的室温电子迁移率已达114cm2/V.s,载流于浓度为2×1018。77K光致发光谱近带边发射峰波长为365nm,其线宽为4DmeV。X射线双晶衍射回摆曲线的线宽为360arcsec。用Zn掺杂生长了绝缘的i-GaN层。在此基础上研制了m-i-n型GaN的LED,并在室温正向偏压下发出波长为455nm的蓝光。 相似文献
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N型GaN的持续光电导 总被引:3,自引:2,他引:3
本文报道了金属有机物化学气相外延(MOVPE)生长的未人为掺杂和掺Sin-GaN的持续光电导(PersistentPhotoconductivity——PPC).在不同温度下观察了光电导的产生和衰变行为.实验结果表明,未人为掺杂和掺Sin-GaN的持续光电导和黄光发射可能起源于深能级缺陷,这些缺陷可以是VGa空位、NGa反位或者VGa-SiGa络合物.和未人为掺杂样品A相比,样品B中因Si的并入导致GaN中的深能级缺陷增加,提高了GaN中黄光发射,使持续光电导衰变减慢,但实验未发现黄光的加强和光电导衰变特 相似文献
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GaInP材料生长及其性质研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用X光双晶衍射、Hall和光致发光研究了MOCVD生长的GaxIn1-xP(x=0.476~0.505)外延层.发现Ga组分随V/Ⅲ比的增大略有下降,认为是由于Ga-P键比In-P键强所造成的.77K下电子迁移率达3300cm2/(V·s).Ga0.5In0.5P的载流子浓度随生长温度升高、V/Ⅲ比的增大而降低,提出磷(P)空位(Vp)是自由载流子的一个重要来源.17K下PL峰能和计算的带隙最大相差113meV,这可能与GaInP中杂质或缺陷以及其中存在有序结构有关. 相似文献
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