首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   30篇
  免费   0篇
  国内免费   12篇
电工技术   2篇
能源动力   1篇
无线电   27篇
一般工业技术   12篇
  2022年   2篇
  2021年   3篇
  2016年   1篇
  2012年   1篇
  2011年   2篇
  2009年   1篇
  2008年   1篇
  2007年   1篇
  2006年   2篇
  2005年   1篇
  2002年   2篇
  2001年   7篇
  2000年   6篇
  1999年   5篇
  1998年   1篇
  1997年   1篇
  1996年   4篇
  1995年   1篇
排序方式: 共有42条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1.
本采用固相外延法在SIMOX衬底上生长了β-FeSi2薄膜,采用X射线衍射(XRD),卢瑟辐背散射(RBS)以及自动扩展电阻测量研究了样品的多层结构,Raman谱表征说明它与直接在硅片上生长的薄膜具有类似的晶格振动特性。  相似文献   
2.
为了改善石墨毡(GF)表面的疏水性以及解决生长的活性物质易脱落的问题,研究了使用浓硝酸简单的一步法活化石墨毡并且引入含氧官能团.通过实验确定了合适的浓硝酸反应条件.经浓硝酸改性后的石墨毡的比电容可以达到272.6 mF·cm-2,而且,发现改性后的石墨毡(MGF)更有利于活性物质生长.与MGF结合后,用于超级电容器电极...  相似文献   
3.
成果简介 β-FeSi2作为一种新型半导体材料,具有Eg=0.84-0.89eV直接带隙,并能在硅表面外延,为利用成熟的硅器件工艺发展硅基近红外光源,探测器等光电器件,并进而发展光电器件与VLSI及ULSI的集成提供了可能.  相似文献   
4.
采用脉冲准分子激光沉积法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上成功地制备了SBT铁电薄膜,发现存在一个最佳沉积衬底温度约为450℃。在该温度下沉积的SBT薄膜具有较饱和的方形电滞回线,其剩余极化Pr和矫顽电场Ec分别为8.4μC/cm2和57kV/cm。  相似文献   
5.
通过一种自下而上的高温裂解方法制成一种碳点(CD),并在此基础上以碳布(CC)为衬底合成了碳点修饰的二氧化锰(CD/MnO2)复合电极.对合成的CD/MnO2/CC进行表征分析,发现生成的CD/MnO2较均匀地生长在碳纤维上,高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)下CD/MnO2呈分层纳米片状.对CD/MnO2/CC进行...  相似文献   
6.
脉冲激光沉积制备c轴取向AlN薄膜   总被引:3,自引:1,他引:3  
c轴取的AlN具有优异的压电性和声表面波传输特性,已受到人们日益广泛的重视。文章报道了采用KrF脉冲准分子激光沉积工艺,在Si(100)衬底上成功地制备了c轴取向的AlN晶态薄膜。X射拇衍射与傅里叶变换红外光谱的结果表明,在300℃-800℃衬底温度下,薄膜均只有(002)-一个衍射峰,但随着温度的升高,薄膜的结晶质量变好;  相似文献   
7.
PZT/PVDF复合材料的制备及介电性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
PZT材料具有高的介电常数,而PVDF有良好的柔韧性,采用化学溶解、旋涂成膜,并通过多层薄膜热压方法制备一定厚度的柔性PZT/PVDF复合材料.对其介电常数和介电损耗进行测量,并进行分析比较.由于复合材料具备高介电常数、低损耗和柔性的特点,可实现微带天线的小型化设计.  相似文献   
8.
性能优异的多功能宽禁带半导体AlN薄膜   总被引:7,自引:1,他引:6  
作为具有优异介电性、压电性的宽禁带半导体材料,AlN是重要的电子封装材料、绝缘介质材料、声表面波材料和蓝光紫外发光材料。本文介绍了AlN材料结构特性、薄膜制备及应用的最新进展  相似文献   
9.
在Si(111)上脉冲ArF准分子激光淀积晶态定向α-SiC薄膜   总被引:13,自引:3,他引:10  
报道用脉冲 Ar F激光烧蚀 Si C陶瓷靶 ,在 80 0℃ Si( 1 1 1 )衬底上淀积 Si C薄膜 ,再经92 0℃真空 ( 1 0 - 3Pa)退火处理 ,制备出晶态α- Si C薄膜 .用 FTIR、XPS、SEM、XRD、TEM、PL谱等分析方法 ,研究了薄膜的表面形态、晶体结构、微结构、组成、化学态和光致发光等 .结果表明 ,在 92 0℃较低温度下 ,Si C薄膜经非晶核化 -长大过程 ,生成了晶态α- Si C( 0 0 0 1 )∥ Si( 1 1 1 )高度定向外延膜 ,薄膜内 C/ Si比约为 1 .0 1 .表面有污染 C及少量氧化态 Si和 C.室温下用 2 80 nm光激发薄膜 ,在 341 nm处有较强发光峰 ,半峰宽 45nm,显示出较好的短波  相似文献   
10.
用脉冲 Ar F准分子激光熔蚀 Si C陶瓷靶 ,在 80 0℃ Si(10 0 )衬底上淀积 Si C薄膜 ,经不同温度真空 (10 - 3Pa)退火后 ,用 FTIR、XRD、TEM、XPS、PL 谱等分析方法 ,研究了薄膜最佳晶化温度及表面形态、结构、组成 ,并对在最佳退火温度处理后的样品进行了化学态、微结构及光致发光的研究 .结果表明 ,在 Si(10 0 )上 80 0℃淀积的样品为非晶Si C薄膜 .经 85 0— 10 5 0℃不同温度真空退火后 ,Si C薄膜经非晶核化 -长大过程 ,在 980℃完成最佳晶化 .随退火温度的变化 ,薄膜中可能存在 3C- Si C与 6 H- Si C的竞争生长或 /和 3C- Si C相的长、消 (最佳温度  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号