排序方式: 共有7条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
2.
3.
4.
5.
波片相位延迟的精确测量及影响因素分析 总被引:3,自引:0,他引:3
提出一种精确测量波片相位延迟的方法。将待测波片置于起偏器和检偏器之间,转动待测波片和检偏器至不同的位置并探测输出的光强,得到波片的相位延迟。采用光源调制技术和解调技术,抑制了连续光所无法克服的背景光干扰和电子噪声的干扰;将光路分为测量光路和参考光路,采用软件除法技术,消除了光源波动的影响,从而实现波片相位延迟的精确测量。详细分析了影响测量精度的误差因素,主要有光源波长变化、温度变化、入射角倾斜、转台转角误差和光源波动,计算了1064 nm波长时厚度为0.52 mm的λ/4多级结晶石英波片产生的相位延迟误差,其中光源波动的影响在作除法后有显著的改善,各误差因素的总测量误差为±1.58°。实际测量了该λ/4结晶石英波片的相位延迟为91.06°±1.78°,与理论分析相符。该测量和误差分析方法同样适合其他的波片。 相似文献
6.
本文研制了一种晶体的静态消光比、电光晶体的静态消光比或动态消光比、电光晶体的半波电压和波片的相位延迟的综合性自动化测量仪。该仪器采用偏振光干涉测量技术、调制光源技术、解调电路、软件除法技术,将光、机、电一体化技术和计算机控制技术有效地结合起来,既可用于科研,也可用于生产现场,实现晶体消光比、半波电压和波片相位延迟3个参数的一体化快速自动化测量。实践证明,运用文中的测量原理和方法,晶体的消光比测量可达到10-6,波片相位延迟的测量重复性精度优于0.5°,此外,运用电光晶体的纵向调制技术,还可精确测量出电光晶体的半波电压。 相似文献
7.
1