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反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
以SF6/N2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法:在分段拟合优化工艺条件下采用人工神经网络该当建立干法刻蚀仿真模型,可以预测绘定射频功率、总气流量下刻蚀速率和纵横比,并且以仿真实验数据训练模型学习,模型具有通用性,与设备无关。 相似文献
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估算SOI单模脊形弯曲波导最小弯曲半径的简单方法 总被引:2,自引:1,他引:2
采用有效折射率方法计算了 SOI弯曲波导由于辐射损耗引起模式截止的最小弯曲半径 ,得到了一个估算弯曲波导的最小弯曲半径的解析表达式 相似文献
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SOI-Based 3dB MMI Splitter 总被引:4,自引:3,他引:1
3 d B splitter is one of the key devices in the integrated optics. Y-branch and X-crossbranch are both the conventional structures to realize3 d B splitter,however,which aredifficultto fabricate because of the small branch angle.In re... 相似文献
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