五里湾表面活性剂组合驱油技术研究及试验

随着油田开发时间的延长,相渗逐步发生变化,油井含水上升速度不断加快,水驱油效率降低。为延缓含水上升速度,提高最终采收率,开展了以调剖和驱油技术相结合的组合调驱技术研究。并针对组合调驱技术及其现场应用中存在的问题,通过系统的理论分析和室内模拟实验,探索出适合采油三厂提高最终采收率的有效方法,改善低渗透油藏的水驱开发效果。通过对油藏的精细描述,优化选井,在五里湾一区开展了三口水井的现场试验,试验效果良好。     

胶体模板法制备三维锗光子晶体

采用胶体模板法并通过简单可控的化学填充工艺制备了三维锗光子晶体；以单分散二氧化硅小球的蛋白石结构为模板，由氯化亚锗与丙烯酸化合制备得到3-三氯锗丙酸（Cl3GeCH2CH2COOH）白色粉末，以三氯锗丙酸的乙醇溶液作为锗源先驱体，低温水解得到β-羧乙基锗倍半氧化物，在600～660℃经H2还原后形成锗，由2％HF化学浸蚀消除模板．对终产物进行X射线衍射分析。结果表明：产物为多晶锗。通过扫描电子显微镜对终产物的形貌进行观察的结果表明：包裹有空气的锗壳球有序阵列已经形成。将先驱体浓度为0．6mol／L的溶液填入模板空隙后。壳层表面可以获得较为光滑致密的锗壳。     

用于微波/射频集成电路的一种新型低损耗介质——多孔硅及氧化多孔硅厚膜

提出在单片微波集成电路(MMIC)中用多孔硅/氧化多孔硅厚膜作微波无源器件的低损耗介质膜.研究了厚度为70μm的多孔硅/氧化多孔硅厚膜在低阻硅衬底上的形成,这层厚膜增加了衬底的电阻率,减少了微波的有效介质损耗.通过测量在低阻硅衬底上形成的氧化多孔硅厚膜上的共平面波导的微波特性,证明了在低阻硅衬底上用厚膜氧化多孔硅可以提高共平面传输线(CPW)的微波特性.     

刚柔嵌段共聚物聚苯基喹啉-b-聚苯乙烯的合成

利用原子转移自由基聚合合成了端羧基聚苯乙烯,然后与4-氨基苯乙酮反应,生成末端为乙酰基的聚合物,以P2O5为催化剂,将功能化的聚合物与5-乙酰基-2-氨基二苯甲酮共聚,合成出刚柔嵌段共聚物聚苯基喹啉-b-聚苯乙烯(PPO-b-PS),用红外光谱(IR)、氢核磁共振(1HNMR)和热重分析(TGA)对其结构和性能进行了表征,并在三氟乙酸／二氯甲烷混合溶剂中进行了初步的自组装研究。     

高电容比射频/微波MEMS膜开关的理论分析和数值模拟

建立了一个MEMS膜开关电容比理论模型，由于这个模型比较全面地考虑了开关阈值电压、维持电压、偏置电压和介质膜内的电场强度等因素对电容比的影响，因而能较为正确地反映开关的电容特性。用数值方法计算了影响开关电容比的因素，并对计算结果进行了分析和讨论。提出了使用脉冲电压作为偏置电压可以使介质膜gj的厚度减少到50nm，从而使开关的电容比增加到3800。最后，讨论了实现高电容比MEMS膜开关的可行性。     

聚苯乙烯微球化学制备及镀镍工艺研究

在聚苯乙烯微球表面进行化学镀镍可以制备磁性微球.采用此方法,能将聚苯乙烯的轻质的优点和镍的磁性结合起来.同时,此方法还具有如下优点:操作简单、反应条件易于控制.采用扫描电镜(SEM)表征了微球的表面形貌.考察了施镀温度、镀液浓度、镀液pH值对结果的影响.     

碳纤维表面涂碳及涂碳后纤维强度测定

用４－甲氧基苯酚经醚化、氯甲基化、消除反应合成出不熔但可溶的聚（２－甲氧基－５－辛氧基）对亚苯基亚乙烯（ＰＭＯＯＯＰＶ）。用ＰＭＯＯＯＰＶ的ＣＨＣｌ３溶液浸涂碳纤维（ＣＦ）,然后在７７３Ｋ碳化,得到亮黑色且分散性很好的涂碳ＣＦ。单纤维平均拉伸强度（σ）测定结果表明,与未涂碳的ＣＦ（σ＝２９７７．８ＭＰａ）相比较,用０．１％ＰＭＯＯＯＰＶ浸涂的ＣＦσ＝３９０８．２ＭＰａ,用０．２％ＰＭＯＯＯＰＶ浸涂的ＣＦσ＝５０３１．２ＭＰａ,并浸涂后强度离散系数、平均矢径等有规律地变小。     

1,4-双(氯甲基)-2-甲氧基-5-辛氧基苯及聚合物的合成

由对甲氧基苯酚（ＭＯＰｈ）合成出一种可溶性电致发光共轭聚合物聚（２－甲氧基－５－辛氧基）亚苯基亚乙烯（ＰＭＯＯＯＰＶ）大致过程为：由ＭＯＰｈ与１－溴辛烷合成１－甲氧基－４－辛氧基苯（ＭＯＯＯＢ）继而合成了１,４－双（氯甲基）－２－甲氧基－５－辛氧基苯（ＢＣＭＭＯＯＯＢ）碱性聚合得可溶性ＰＭＯＯＯＰＶ。并做了ＢＣＭＭＯＯＯＢ与其它单体的共聚,对中间体及聚合物用＾１ＨＮＭＲ进行了表征。     

温度：影响多孔硅光学特性的一个关键参数

The optical properties of porous silicon（PS） samples fabricated by pulse etching in a temperature range from-40 to 50-C have been investigated using reflectance spectroscopy,photoluminescence spectroscopy,and scanning electron microscopy（SEM）.The dependence of the optical parameters,such as the refractive index n and the optical thickness（nd） of PS samples,on the etching temperature has been analyzed in detail.As the etching temperature decreases,n decreases,indicating a higher porosity,and the physical thickness of PS samples also decreases.Meanwhile,the reflectance spectra exhibit a more intense interference band and the interfaces are smoother.In addition,the intensity of the PL emission spectra is dramatically increased.     

多孔硅薄膜的纵向均匀性及其光学特性研究

多孔硅样品使用脉冲电化学腐蚀法经过不同的腐蚀时间制备完成,使用反射光谱、光致发光光谱和SEM对多孔硅薄膜的纵向均匀性以及其光学特性进行了研究,还详细研究了随腐蚀深度变化的折射率和光学厚度(n*d)等光学参数。实验表明：随着腐蚀深度的增加,多孔硅薄膜的平均折射率n降低,即多孔度变大;多孔硅薄膜的光学厚度的形成速度减小;同时,反射光谱表现更弱的干涉性,表明薄膜的均匀性和界面的平整性变差;另外,光致发光谱的强度微弱变强。