透明陶瓷材料现状与发展

透明陶瓷的诞生使得高压钠灯得到实际应用，近年来通过透明陶瓷技术可以解决单晶工艺中的某些难题，并发展多晶代替单晶开发出了激光陶瓷、陶瓷闪烁体等新一代光学材料，本文就透明陶瓷的现状和发展作一简要综述。  

陶瓷材料的选区激光烧结快速成型技术研究进展

阐述了陶瓷材料选区激光烧结技术的原理、工艺和特点，着重分析了粉体预处理、激光烧结参数以及坯体后处理等工艺因素对制件精度和性能的影响，还介绍了该技术目前的应用状况以及潜在的应用领域，最后对该项技术研究和发展的趋势作了展望，指出选区激光烧结技术有可能成为本世纪最主要的陶瓷材料成型工艺之一。  

类金刚石薄膜作为阴极阵列的场发射显示器研制

采用真空磁过滤弧沉积（FAD）的方法制备的金刚石（DLC）薄膜具有良好的场发射性能。通过离子束技术和微细加工技术可以实现DLC薄膜的图形化并能大大提高薄膜的场发射性能。测试表明，DLC薄膜孔洞阵列具有很好的电子场发射性能，阈值电场达到了2.1V/μm，当场强为14.3V/μm时，电流密度达到了1.23mA/cm^2。利用图形化的DLC薄膜作为阴极，设计和制作了矩阵选址单色场发射显示器（FED）样管。  

有机发光器件的低温氮化硅薄膜封装

利用等离子体化学气相沉积(PECVD)技术，采用不同的沉积条件(20—180℃的基板温度范围和10—30W的射频功率)制备了氮化硅薄膜，研究了沉积条件对氮化硅薄膜性质和防水性能的影响。实验发现随着基板温度的增加，氮化硅薄膜的密度、折射率和Si／N比相应增加，而沉积速率和H含量相应减少；随着射频功率的增加，氮化硅薄膜的沉积速率、密度、折射率和Si／N比相应增加，而H含量相应减少。水汽渗透实验发现即使基板温度降低为50℃，所沉积的氮化硅薄膜仍然具有良好的防水性能。实验结果表明低温氮化硅薄膜可以有效地应用于有机发光器件（OLED)的封装。  

PSA技术与医用分子筛制氧设备

从ＰＳＡ技术制服氧气的机理和特点出发，阐述了用这种技术制取的氧气可作为医用氧气的理论依据，并简介了我所ＰＳＡ医用分子筛制备氧设备的工艺流程及其使用性能。  

一种蜂窝纸板材料吸声及隔声系数的实验测量

当蜂窝纸板材料用于建筑、装修及会展等领域时,其吸声及隔声性能会受到特别关注.研制了一套管道实验系统,通过实验,对蜂窝材料的吸声及隔声性能进行了评价.对面密度相同的蜂窝纸板和瓦楞纸板的隔声系数进行了实验比较,结果表明,蜂窝纸板的隔声系数在较宽的频带上高出瓦楞纸板5~10dB.  

表面覆铪改善碳纳米管膜发射性能

研究了表面沉积铪膜并进行后处理对碳纳米管膜场电子发射性能的影响.研究结果表明在适当的退火温度下碳纳米管表面形成了碳化铪,并显著提高了碳纳米管的发射电流密度、发射均匀性和发射稳定性.我们认为碳纳米管表面发射性能的提高归功于表面碳化铪膜良好的导电性、化学惰性和低逸出功.  

CI控制的舒适性与节能性研究

针对热舒适性各影响因素的特点,提出了舒适性指标(CI)控制的控制策略和算法,建立了房间空调器系统模型,对CI控制进行了计算机仿真研究.通过与传统设定温(湿)度控制比较,说明CI控制更容易更可控地满足热舒适要求,而且在舒适度相近的条件下,节能效果显著.  

低能Ar+离子束辅助沉积择优取向Pt(111)膜

采用低能Ar+离子束辅助沉积方法,在Mo/Si(100)基底上沉积Pt膜,离子/原子到达比分别为0.1、0.2、0.3.若Ar+离子的入射角为0°,XRD谱分析表明,沉积的Pt膜均呈(111)和(200)混合晶向;当Ar+离子的入射角为45°,沉积的Pt膜均呈很强的(111)择优取向.因此若合理控制Ar+离子束的入射角,可在Mo/Si(100)衬底上制备出具有显著择优取向的Pt(111)薄膜.本文采用Monte Carlo方法模拟低能Ar+离子注入 Pt单晶所引起的原子级联碰撞过程,得出Ar+离子入射单晶铂(200)晶面时,Ar+离子的溅射率与入射角的关系,对Pt膜择优取向的机理作了初步的探讨和分析.  

烧蚀产物ZrO2 对ZrC改性C/C复合材料烧蚀的影响

采用ZrOCl2溶液浸渍法把含锆组元引入碳纤维预制体,结合热梯度化学气相渗透、高温石墨化工艺制备了ZrC改性C/C复合材料. 用氧乙炔烧蚀测试材料的烧蚀性能,XRD测试材料烧蚀前后的物相组成,采用SEM观察材料的微观形貌. 烧蚀结果表明:随着烧蚀次数的增加,若每次烧蚀后不去除ZrO2,材料的线、质量烧蚀率呈先增加后减小的趋势,最后趋于稳定;若每次烧蚀后去除ZrO2,材料的线、质量烧蚀率均呈增大的趋势. 产物ZrO2的蒸发吸收了材料烧蚀表面的热量,减缓了火焰对烧蚀表面的冲蚀,材料的线烧蚀率减小,然而,ZrO2的蒸发会增加材料的质量损失速度,导致材料的质量烧蚀率增大.