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1.
化学镀Ni-W-P合金工艺的研究   总被引:9,自引:2,他引:7  
为了研究化学镀Ni-W-P镀液中硫酸镍、钨酸钠、次亚磷酸钠、柠檬酸三钠、稀土添加剂含量对镀层中磷、钨含量和镀速的影响以及镀层中钨含量对其耐蚀性和耐磨性的影响,采用721B分光光度计、EDTA络合滴定法和磨损试验法对化学镀Ni-W-P合金工艺进行了研究。结果表明:加入适量稀土添加剂可提高镀速1/4左右,但镀层中钨含量下降,磷含量增加;在硫酸和盐酸中镀层的耐蚀性随钨含量的增加而提高,本工艺性能稳定,操作方便。  相似文献
2.
高温涂层研究的新进展   总被引:7,自引:1,他引:6  
林翠  杜楠  赵晴 《材料保护》2001,34(6):4-7
综述了高温涂层的发展过程和研究现状,对高温涂层的种类、制备方法、添加活性元素机理和一些具有特色的高温涂层进行了介绍,归纳了高温涂层的发展趋势。  相似文献
3.
化学复合镀镍-磷-金刚石工艺及性能的研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
廖强  杜楠  赵晴  周海飞 《材料工程》2006,(Z1):334-337
研究了化学复合镀镍-磷-金刚石镀层操作条件对复合镀层镀速、复合量及硬度的影响,并对复合镀层的组织和性能进行了分析.结果表明,金刚石颗粒在镀液中部分会被活化,进入复合镀层过程中其表面沉积有镍层.实验得到了镀速20μm/h以上、均匀的Ni-P-金刚石镀层,金刚石的加入对镀速的影响不大.金刚石在镀层中的质量分数主要与金刚石在溶液中含量有关,当金刚石在溶液中含量为20g/L时,其在镀层中质量分数可达15%,硬度可达HV(0.5)500以上,为Ni-P化学镀层硬度的2.5倍左右,且镀层硬度随镀层中金刚石含量增加而增大.复合镀层的耐蚀倾向与Ni-P化学镀层大致相同.  相似文献
4.
电沉积非晶态镍—钼合金及其镀层结构的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
杜楠 Sada.  YN 《材料保护》1994,27(11):8-12
研究了在柠檬酸盐镀液中实现Ni,Mo共沉积的电解条件,获得了含Mo量为16.41%-61.35%(wt)的Ni-Mo合金。讨论了金属浓度比、阴极电流密度、PH值、搅拌、温度等因素对合金成分的影响,考查了所得合金的X射线衍射结构,认为沉积的Ni-Mo合金随着Mo含量的增加为Ni基取代型固溶体、过饱和固溶体、非晶态。  相似文献
5.
氧化铝泡沫陶瓷增强预制体上化学镀镍工艺研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
赵晴  杜楠  王薇薇  尧军平 《材料保护》2000,33(12):14-15
通过研究氧化铝泡沫陶瓷增强预制体上化学镀镍的前处理工艺,尤其是粗化、活化、敏化等步骤,并调整化学镀镍配方及工艺,成功地镀覆了厚度为数十个微米的镍层,初步解决了氧化铝陶瓷与铝基体(ZL102)的界面润湿问题。磨损试验结果证明效果明显。  相似文献
6.
T-1000碳纤维/环氧树脂基复合材料性能研究   总被引:2,自引:1,他引:1  
用扫描电镜、红外光谱、X射线光电子能谱仪、NOL环及φ150mm容器等手段,对T-1000碳纤维表面状态、元素组成和复合材料性能进行系统研究.结果表明,该纤维表面光滑,富有树脂涂层,具有高的活性碳基团,与HS19环氧基体匹配具有高的粘接强度,φ150mm容器环向纤维发挥强度达6174MPa,复合高压气瓶具有较高的容重比.  相似文献
7.
电参数对压铸镁合金微弧氧化的影响   总被引:2,自引:1,他引:1  
采用脉冲电源在K2SiO3-KOH溶液中对压铸镁合金AZ91D进行微弧氧化,并采用扫描电镜(SEM)及X射线衍射(XRD)研究了微弧氧化电流密度、频率、占空比对陶瓷膜的生长速率、腐蚀速率及组织形貌的影响.结果表明,氧化膜主要由MgO、Mg2SiO4、MgAl2O4和不定形相组成;膜层的生长速率与表面形貌主要由单脉冲的放电能量决定;随电流密度的增加或频率的减小,微弧氧化膜层的生长速率增加,但膜层表面变粗糙并产生裂纹;厚度12~20 μm的膜层有较好的耐蚀性.  相似文献
8.
锌镍合金镀液中锌镍离子浓度对镀层镍含量的影响   总被引:2,自引:1,他引:1  
为了得到成分较稳定的锌镍合金镀层,考察了镀液中锌、镍离子浓度对镀层镍含量影响情况,发现镀液中锌镍离子摩尔浓度比对镀层镍含量影响最大;控制镀液中c(Ni2 )/[c(Ni2 ) c(Zn2 )]为0.15~0.17、c(Ni2 ) c(Zn2 )在0.17~0.40 mol/L范围内,能得到镍含量质量分数在13%左右的高耐蚀性锌镍合金镀层.循环伏安曲线分析表明,在合金电镀过程中,Zn2 的存在和析出会在阴极表面形成中间产物吸附膜,使镍的还原受阻,导致合金镀层的镍含量低于镀液中的c(Ni2 )/[c(Ni2 ) c(Zn2 )],锌镍合金共沉积表现为异常共沉积.  相似文献
9.
用射流电沉积进行局部快速电镀的工艺研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
王梅丰  杜楠  赵晴  卢雄威 《材料保护》2006,39(9):49-50,70
射流电沉积是近年来发展起来的一种电沉积新工艺,具有普通电镀所不具备的一些优点.利用二维移动平台系统进行射流电沉积,研究了瓦特镍镀液的喷射速度、温度以及阴阳极间距等因素对射流电沉积的影响.研究结果表明,当镀液喷射速度为0.3 m/s,槽电压为20 V,阴阳极之间距离为17 mm时,采用该系统可在金属试样上快速获得预先设定的图形镀层,镀层分布均匀,与基体的结合力良好.  相似文献
10.
电沉积非晶态镍-钼合金及其镀层结构的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了在柠檬酸盐镀液中实现Ni、Mo共沉积的电解条件,获得了合Mo量为16.41%~61.35%(Wt)的Ni-Mo合金。讨论了金属浓度比、阴极电流密度、pH值、搅拌、温度等因素对合金成分的影响,考查了所得合金的X射线衍射结构,认为电沉积的Ni-Mo合金随着Mo含量的增加为Ni基取代型固溶体、过饱和固溶体、非晶态。  相似文献
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