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1.
APCVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其性能研究   总被引:7,自引:0,他引:7  
采用常压化学气相沉积(APCVD)法,以四氯化钛(TiCl4)、氧气(O2)氨气(NH3)作为先驱体,成功制备了掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜.通过对其进行扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外可见透过光谱(UV-VIS)研究后发现,氮掺杂后在二氧化钛薄膜中引入Ti4O7相,抑制了锐钛矿相向金红石相的转变,光吸收限发生红移,相应从365.8nm红移到了402.6nm,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能.  相似文献
2.
氧化铝泡沫陶瓷增强预制体上化学镀镍工艺研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
赵晴  杜楠  王薇薇  尧军平 《材料保护》2000,33(12):14-15
通过研究氧化铝泡沫陶瓷增强预制体上化学镀镍的前处理工艺,尤其是粗化、活化、敏化等步骤,并调整化学镀镍配方及工艺,成功地镀覆了厚度为数十个微米的镍层,初步解决了氧化铝陶瓷与铝基体(ZL102)的界面润湿问题。磨损试验结果证明效果明显。  相似文献
3.
王薇薇  郭玉  张溪文  韩高荣 《材料导报》2006,20(Z1):57-61,74
概述了TiO2的国内外发展现状,从原理、改性等方面详细介绍了TiO2的光催化特性,并对TiO2的制备方法进行了总结概括.用APCVD法所做的气体流量系列掺氮TiO2样品进行测试分析发现,氮已经掺入TiO2中,氮的掺杂改善了薄膜表面的亲水性能.  相似文献
4.
本文用介质阻挡放电化学气相沉积(DBDCVD)在室温下进行了非晶氢硅薄膜制备.通过硅烷氢气流量比、DBD放电电压等工艺条件的调整,在玻璃上沉积了系列样品.研究表明,DBDCVD法可以在室温下快速制备非晶氢硅薄膜,最大沉积速率可达0.34nm/s,由于DBDCVD的高能量和室温沉积的特点,薄膜中硅-氢键以SiH2为主.随硅烷反应气体浓度的变化,薄膜的光学带隙可在1.92eV~2.18eV之间调整.  相似文献
5.
佛境     
正生命中的某一刻,我拿起相机透过镜头看世界,许便是前缘,在娑婆世界中渐行渐远,渐次领悟,双手合十,原来想去最远的远方竟然是自己的内心。也是近年,向内心,观自在,求幸福,再看这树、这寺、这佛,已不同,镜头下佛教题材的拍摄,便是再续前缘、满心欢喜……心到佛到,《华严经》有言:"心如画工师,能画诸世界"。我用镜头显现的法界万象,皆是我内心所思,其实亦是我心所画之相。在拍摄中,透过镜头不仅仅包容大千世界,  相似文献
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