荧光共轭聚合物的合成及荧光淬灭研究

通过Sonogashira偶合反应合成了3种含pentiptycene基团、侧链分别含对称烷氧基取代、含非对称烷氧基取代和含烷基取代的聚对苯撑乙炔衍生物PPE-A、B和C.采用1H NMR,FT-IR,UV-Vis和PL等仪器对其进行了表征.讨论了侧链取代基类型对PPE溶解性和光学性能的影响;研究了间二硝基苯(m-DNB)和对硝基甲苯(p-NT)两种硝基化合物对PPE-A和B溶液的荧光淬灭影响,结果表明,PPE-A和B具有很高的荧光强度,对m-DNB和p-NT显示出良好的荧光响应.     

弱碱三元注入系统结垢因素研究

针对弱碱三元注入系统严重的结垢问题,取注入站静混处部分垢样进行成分分析,并对弱碱三元体系成垢的影响因素,以及工业碱的成垢规律开展研究,同时提出相应的处理建议。结果表明,工业碱是三元体系成垢的主要因素;污水与碱接触24小时内,体系的结垢量基本达到平衡;室内模拟实验证明,采用沉淀后的碱表二元水配制三元体系能够较大幅度降低成垢量。