环氧基复合吸波涂层的制备与性能研究

目的 制备综合吸波性能良好的复合吸波涂层。方法 选择炭黑和羰基铁粉进行机械混合,作为吸波剂加入到环氧树脂中进行吸波材料制备,利用扫描电子显微镜对炭黑和羰基铁粉分别进行微观形貌的观察。利用矢量网络分析仪在2～18 GHz内测试其电磁性能,研究炭黑和羰基铁粉含量及涂层厚度对吸波性能的影响规律。结果 通过观察微观形貌发现,炭黑颗粒较小,出现团聚和粘附性现象,羰基铁粉颗粒呈球状,表面光滑,分散性好。复合后的材料混合较均匀,羰基铁粉分散在基体中,与炭黑团配合能够提高材料的吸波性能。纯炭黑的吸波频带较窄,纯羰基铁粉的频带主要集中在中高频段,而复合后的吸波频段较宽,有着良好的吸波性能。炭黑质量分数为4%,羰基铁粉质量分数为250%,厚度为2 mm时,吸波涂层在9～18 GHz的微波吸收率超过90%,且反射损耗峰值达到近–45 dB。结论 炭黑和羰基铁粉复合后,吸波材料的吸波频带更宽,效果更好,解决了单一吸波剂涂层存在的吸波频带窄和集中于高频段的问题。通过调节涂层厚度,可以使材料在相对应的波段获得更好的吸波性能,从而得到更广泛的应用。     

铝表面改性SiOx薄膜力学性能研究

采用常压化学气相沉积（APCVD）技术在铝基底上成功制备了改性SiOx陶瓷薄膜。通过显微硬度测试与涂层附着力自动划痕测试定量研究了薄膜显微硬度和膜基结合强度，利用光学显微镜（0M）和扫描电子显微镜（SEM）观察了薄膜的原始表面以及压痕、划痕形貌。结果表明，SiOx膜层由大小不均匀的等轴状颗粒团聚堆垛而成，退火处理时长大或融合成片状；SiOx薄膜有效提高纯铝表面的硬度，并能通过SiOx薄膜变形以松弛表层应力，抑制脆性裂纹产生；划痕测试证明基底和薄膜具有很高的结合强度，薄膜与基底发生塑性变形而不剥离。     

铝表面改性SiOx薄膜力学性能研究

采用常压化学气相沉积(APCVD)技术在铝基底上成功制备了改性SiOx陶瓷薄膜.通过显微硬度测试与涂层附着力自动划痕测试定量研究了薄膜显微硬度和膜基结合强度,利用光学显微镜(OM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜的原始表面以及压痕、划痕形貌.结果表明,SiOx膜层由大小不均匀的等轴状颗粒团聚堆垛而成,退火处理时长大或融合成片状;SiOx薄膜有效提高纯铝表面的硬度,并能通过SiOx薄膜变形以松弛表层应力,抑制脆性裂纹产生;划痕测试证明基底和薄膜具有很高的结合强度,薄膜与基底发生塑性变形而不剥离.     

低密度聚苯乙烯仿木线材挤出发泡研究

结合聚苯乙烯（PS）化学自由挤出发泡工艺，探讨了合成级新料与再生原料树脂的特性对发泡效果和发泡制品冲击性能的影响；比较了放热型改性AC发泡剂、吸热型改性NaHCO3放热吸热复合发泡剂对再生料PS发泡制品的密度、泡孔结构、气孔均匀度的影响；探究了不同发泡剂对发泡制品芯层泡孔结构的影响。结果表明，发泡剂含量为1 %时,采用AC发泡剂和复合发泡剂的发泡制品的密度分别为0.47 g/cm3和0.39 g/cm3。     

pH值敏感介孔纳米复合材料SBA-15/PAA的制备与性能研究

通过浸渍吸附的方法将pH值敏感的功能单体-丙烯酸引入到介孔二氧化硅SBA-15的孔道内,经自由基聚合使丙烯酸(AA)在孔道内聚合,成功合成了pH值敏感的SBA-15/聚丙烯酸(PAA)纳米复合材料,所得纳米复合材料的结构通过XRD、TEM、氮气吸附/脱附、TG、FT-IR等手段进行了表征,并进行了pH敏感性能研究.结果表明,当聚合物(PAA)的量达到20%左右时,复合材料仍然具有较大的孔体积0.5203cm3/g和较高的比表面积334.5m2/g.聚合反应的发生没有破坏SBA-15的有序介孔结构,这种纳米复合材料初步显示出了pH敏感性.这种具有高比表面的pH值响应介孔纳米复合材料,有望在药物缓释领域得到应用.     

铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究

本文采用低温常压CVD方法制备铝基SiOx陶瓷膜层.以黄铜为对磨材料,使用销-盘式磨损试验机对比研究纯铝表面与SiOx膜层的滑动磨损性能,通过SEM分析磨损的表面形貌并分析其磨损机理.结果表明纯铝表面发生粘着磨损,存在大量塑性变形和折叠,导致片状脱落,磨损率高;SiOx薄膜硬度较高,存在孔隙,表面发生塑性变形、崩塌和磨粒磨损;因薄膜孔隙具有储存润滑剂(水)的作用,磨损率明显低于对比纯铝样品;随沉积时间增加,SiOx膜层变厚,承载能力提高,磨损量减小.     

墨水直写打印树脂固化行为与力学性能对比

为提升墨水直写打印不饱和聚酯树脂的成形效率与质量,研究加热、红外与紫外三种后固化方式作用下材料的固化行为与力学性能。利用介电固化监测仪测定材料在固化过程中的离子黏度,并计算转化率,利用万能试验机测试墨水直写打印材料固化后的拉伸和弯曲性能。结果表明,与热固化、红外固化相比,紫外固化表现出特征完全不同的离子黏度曲线。热固化达到完全固化(转化率≥90%)所需时间为87.1 min,红外固化为33.7 min,紫外固化为4.1 min,紫外固化具有最高的成形效率。紫外固化试件拉伸强度达48.06 MPa,拉伸弹性模量达678.16 MPa,弯曲强度达38.52 MPa,弯曲弹性模量达484.31 MPa,以上各项指标均优于红外与加热后固化处理的试件。因此,在墨水直写打印不饱和聚酯树脂的三种后固化方式中,采用紫外光固化不仅效率更高、而且质量好,是最佳选择。     

铝表面化学气相沉积SiOx膜层的显微结构和性能

采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层.使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV-VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能.结果表明:硅氧化物SiOx陶瓷膜层在铝基表面以气相反应沉积硅氧化物颗粒-颗粒嵌镶堆垛-融合长大的方式生成,大部分膜层为非晶态区域,其中包含少量局部有序区域,SiOx中的硅氧原子比为1:1.60～1:1.75,膜层疏松多孔,具有很高的紫外-可见光吸收率,膜层与基底具有很好的结合性.     

铝基APCVD沉积SiOx膜层的光学性能研究

采用低温常压化学气相沉积（APCVD）的方法在铝基底上制备硅氧化物陶瓷膜层。采用XPS、
XRD、HRTEM、UV-VAS和NIRS等技术分析膜层的成分、结构组织和形貌特征，并测试了膜层的光学吸收性能
。研究结果表明，SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1.75，硅氧化物陶瓷膜层大部分为非晶态组织，包
含少量局部有序区域。SiOx陶瓷膜层沉积在铝基上后具有很高的紫外可见光吸收率和较高的近红外光吸收
率，产生机制是硅氧化物陶瓷膜层中氧空位存在局域电子态，电子吸收能量产生能级跃迁。     

金属粉末微波烧结机理研究进展

从微波场对金属粉末的电磁作用及微波场中金属粉末的烧结行为等角度, 综述了国内外金属粉末微波烧结机理的研究进展。在电磁作用方面, 总结了热效应与非热效应对于烧结过程的影响, 热效应对烧结的影响主要包括微波加热电磁功率的损耗和电磁聚焦现象, 非热效应对烧结的影响主要是放电效应和磁力效应。归纳了烧结颈长大过程中的物质迁移方式及烧结颈生长机理, 材料种类和工艺参数对物质迁移方式产生影响, 烧结颈的生长过程同温度场及电磁场密切相关。本文在综述了现有研究进展的基础上, 分析了目前研究的不足与欠缺, 展望了金属粉末微波烧结机理未来的研究方向。