提高氟化镁膜层强度的新方法

氟化镁是广泛用于镀增透膜和其它膜层的唯一的低折射率材料。大家知道,用钽、钨或钼舟以及电子射线可方便地使它蒸发。实验表明,在冷的基片上真空淀积的氟化镁膜,其气孔率很大,因而机械强度很小(仅Ⅲ级强度)。为了提高氟化镁膜的强度,过去采取将基片加热到300℃再蒸镀的方法。但是,在一系列条件下,当对表面精度要求特别高时,加热基片是不适宜的,甚至根本不能允许。此外,在真空中加热基片,镀后还要使零件冷却下来,这就增加了工序和工时。因此,人们对于在冷的基片上镀制机械强度高的氟化镁膜,是很感兴趣的。     

KD~*P 晶体的防潮保护

KD~*p晶体(磷酸二氘钾)属于四方晶系的阴离子单轴晶体。其点群42m,居里温度213K,密度2.238g/cm,莫氏硬度约2.5,无色透明。由于KD~*P在可见和近红外波段(0.3～1.5μm)有良好的透过性,具有较高的抗破坏阈值(达800MW/cm~2)能承受强光,且光学均匀性好,消光比高,半波电压低,因而不仅在光学仪器中,而且在激光技术中都有广泛的     

关于光学晶体防潮保护膜的研究

六十年代以来,随着激光与红外技术的飞速发展,光学晶体的应用大为增加。但是,这些晶体大都极易潮解,从而影响使用寿命。因此,大大促进了光学晶体防潮保护膜的研究。十几年来,研究较多的主要是碱金属或碱土金属卤化物晶体的防潮保护膜。所用保     

接触角对粘接技术的应用

本文所介绍接触角对粘接技术的应用原理,以及接触角的测量与计算方法。     

有机氟材料及其在文物保护中的开发应用前景

从有机氟材料的特性出发，在分析近十年来含氟聚合物在涂料研究方面进展的基础上，论述了含氟聚合物在物保护方面的应用前景。     

WD-10在石质文物表面封护中的应用

本文介绍WD - 10及其主体成分十二烷基三甲氧基硅烷的性能 ,并介绍了在石质文物表面封护中的应用     

真空镀透明导电膜的保护性能

真空导电膜已有广泛的应用。它可以用来赋予光学电介质表面高的导电性并消除这类表面上的水汽和静电荷。在化学稳定性差的材料(某些无色的和有色光学玻璃及晶体)上,经常需要镀真空导电膜。本文研究由SnO_2、In_2O_3和In_2O_3(10％SnO_2)组成的真空导电膜的保护性能。在新鲜的基片上镀SnO_2之后,在空气中于400℃加热3小时,而镀In_2O_3和In_2O_3(10％SiO_2)之后,则在350℃加热3小时,在上述导电膜的厚度≈0.25μm时,其表面比电阻依次为～10~4,10~3和3～5×10~2Ω。在用化学稳定性较差的基片(Tφ,Oφ,C3C,3C玻璃制的)时,SnO_2导电膜的保护性能不明显。