衍射光学元件表面形貌测量方法研究

提出了一种基于双光路双波长相移干涉显微原理的新型 DOE三维表面形貌测量方法 ,并建立了相应的测量系统。理论分析和测量结果表明 ,测量系统纵向分辨率为 0 .5 nm,横向分辨率约为 0 .5 μm(NA=0 .4) ,在整个纵向测量范围内重复测量精度优于 1 .3nm,满足了 DOE表面形貌测量的需要。     

微透镜列阵与红外探测器列阵集成芯片的研究

在分析微透镜列阵光聚能原理的基础上,针对背照式256290铂硅红外焦平面探测器列阵 的结构参数,设计了衍射微透镜列阵,使入射光通过硅基底聚焦至探测器的各个光敏面上, 提高光能利用率从而增强探测能力。实验获得了微透镜列阵与红外焦平面集成芯片,并在热成像中取得了良好的结果。     

激光直写系统中的对准技术应用研究

基于ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统原有基片的多图形对准方法，针对衍射光学元件（ＤＯＥ）图形的特点，通过设计合理的对准标记、修改对准识别文件和实验，产生了一套适于ＤＯＥ图形套刻的对准方案。其对准误差小，达到了系统规定指标。并实验研制出了１６位相台阶的ＤＯＥ，取得了良好的效果。     

折衍混合系统实现长焦深方法研究

通过对传统能量守恒法设计长焦深元件进行介绍与分析,根据衍射元件设计灵活的特性,提出了改进的能量守恒设计方法,利用折衍混合系统实现长焦深元件,并建立了优化的评价函数分两步对设计结果进行优化。     

ISI-2802激光直写系统及其应用

介绍中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室引进的国内首台激光直写系统的工作模式、基本结构、主要性能和应用范围等，并给出用这台设备已经作出的一些掩模图形的样品。     

衍射微透镜列阵掩模制作软件的设计

研究了衍射微透镜列阵的设计方法及ＣＩＦ格式掩模数据的数据结构与生成方法,设计了一套产用软件,采用图形切割、跟踪计算等方法,解决了生成子孔径为矩形、六 方形及圆环扇形的衍射微透镜列阵掩模的问题,满足了实际系统对衍射微透镜列阵子孔径形状的各种需求。     

激光直写系统图形编辑软件

简要描述了一套针对激光直写系统，适用于衍射光学元件和精密码盘及其它图形的图形辅助编辑软件——ＭＡＳＫ软件，简单介绍了其功能和结构。