利用二进制数算法寻找5个点的Ramsey图

用二进制数来表示完全图的各种组合,借助计算机编程可从完全图的各种组合中寻找出ramsey图。5个顶点的Ramsey图是最基本的Ramsey图,这种基本方法为寻找更复杂的Ramsey图提供了基础。     

静态推靠式旋转导向控制模型与造斜率预测方法

推靠式旋转导向工具的防斜、稳斜能力强,能基本满足复杂地层安全高效钻进的需要,但目前的造斜率预测方法没有考虑推靠块控制方式及钻进过程的影响,存在造斜率预测精度低的问题。为此,考虑导向工具的结构特性,建立了静态推靠式旋转导向控制模型,给出了可靠的导向力控制方案,利用下部钻具组合力学模型及钻头–地层相互作用模型,得到了基于零侧向钻速条件下的造斜率预测模型,并引入折算系数对造斜率预测结果进行了修正。实例计算及敏感性分析结果表明,该方法预测精度高,能够满足井眼轨迹精确控制的需要;导向合力、钻压、钻头与稳定器的距离对推靠式旋转导向工具的造斜能力影响显著,现场施工时为了充分发挥导向合力的作用,要适当减小钻头与稳定器的距离、降低钻压,以提高旋转导向工具的造斜能力。研究结果为旋转导向钻具组合优选、钻井参数优化等提供了理论依据。     

服务器虚拟化在数字化校园建设中的应用

在高校数字化校园的建设过程中,有三个重要的问题需要解决。第一,随着应用系统地不断增加,相应地对服务器的需求日益增长。第二,应用系统的高可靠运行至关重要。第三,计算机硬件资源的统一调度、共享、管理。随着虚拟化技术的发展,这些问题得到了很好的解决。服务器虚拟化方法可以在一台服务器上虚拟多台计算机,从而可以降低服务器的采购、管理和维护成本,提高应用系统的高可靠性和资源的利用率。     

基于CAN总线的电力直流电源监控系统的设计

介绍了一种基于CAN总线的电力直流电源监控系统的设计及其工作原理。该设计基于S3C44B0X的嵌入式系统组成系统的中央监控模块,并通过CAN总线与由单片机系统组成的各直流电源的现场控制节点通信,以达到对各直流电源的集中监控,从而实现整个电力系统管理的自动化。     

哲学教学中的课题探讨

随着新课程的全面实施,广大一线教师纷纷尝试课题探究教学模式,在收到良好教学效果的同时,也存在着一些困惑。本文对哲学教学中的课题探究进行了初步的研究,以期对中学哲学教学的实施者有所裨益。一、实施哲学课题探究教学的必要性现代社会要求人们不仅掌握系统扎实的知识,更要具有自主探索、研究、创新的能力。因此,在中学哲学教学中培养学生的探究、创新能力和实践能力,已成为当今教育的重要价值取向。研究表明,课题探究教学更有利于培养学生独立思考的习惯,激发学生的创造意识。传统哲学教学过分注重考试分数的提高,教师常常将所有的知识…     

二维经验模态分解边界效应抑制研究

二维经验模态分解中边界效应抑制是一个关键问题,现有方法主要讨论一维信号端点效应抑制,基本思想是信号延拓,不适合对二维信号进行边界效应抑制。提出一种二维图像边界效应抑制方法,该方法根据对称性、局部性原理和牛顿插值理论,对边界点进行插值,获取部分边界极值,采用这些极值对边界进行线性插值获取图像每个边界像素点的极大值和极小值。把这种边界效应抑制方法应用到二维经验模态分解中收到了较好的实验效果。     

胶磷矿和白云石的嵌布特征及磨矿细度试验

针对贵州织金中低品位磷矿石在进行物质组成研究的基础上进行浮选富集磷的试验,主要考察了胶磷矿和白云石的嵌布特征以及磨矿细度对浮选的影响。试样中磷的化学物相分析结果显示,矿石中P2O5绝大部分为胶磷矿中的P2O5,该试样浮选回收的对象为胶磷矿。对胶磷矿和白云石的嵌布特征进行研究的结果表明:试样中部分呈致密状嵌布的胶磷矿,其整体嵌布粒度粗,且包含大量细粒的白云石、方解石和石英、粘土矿物;其次胶磷矿呈生物碎屑状、粒状、肾状、不规则状等嵌布于白云石中,这部分胶磷矿的嵌布粒度相对于其胶结物白云石来说很细。以上两种嵌布特征都给选矿磨矿过程中磨矿细度的选择带来了难题,想要获得好的浮选指标,磨矿细度的选择很重要。对于原矿含P2O523.65%,MgO5.96%,采用"一粗一精"反浮选工艺流程,在磨矿细度为-0.074 mm占74.38%的条件下,获得的磷精矿含P2O532.25%,MgO0.75%,精矿中P2O5回收率84.39%,MgO的脱除率为92.02%。     

钾盐选矿利用研究现状

介绍了国内外钾盐选矿利用方面的研究状况.从可溶性钾盐和难溶性含钾矿石两方面分别阐述了选矿机理和基本选矿方法,对钾盐的选矿实践具有一定的指导意义.     

价值工程优化施工组织设计

在墩身施工方案中运用价值工程理论进行优化施工组织设计.     

光源掩模协同优化的原理与应用

当半导体技术节点缩小至14 nm及以下时,光刻技术也逐渐接近了其物理极限.光源掩模协同优化(SMO)作为一种新型的分辨率增强技术,能够显著提升极限尺寸下半导体光刻的重叠工艺窗口,有效延伸当前常规光刻技术的生存周期.综述了SMO这一技术,分析了SMO的原理,介绍了该技术的发展和在半导体制造工艺中的应用,重点探讨了其在先进光刻节点研发中的应用,并对其挑战和发展趋势进行了展望,认为SMO不仅是193 nm浸润式光刻技术的重要组成部分,也将是EUV光刻中必不可少的一种技术.