OH^—和氧离子杂质在BaF2晶体辐照损伤的影响

从理论和实验两方面研究ＯＨ＾－和氧离子杂质为ＢａＦ２晶体辐照损伤的影响，并对其机理进行讨论，理论上用ＨＦＳ－ＤＶＭ－Ｘα）局域密度离散变分法计算ＯＨ＾－和氧离子杂质心在ＢａＦ２中的电子结构，得到ＯＨ＾－，Ｈｓ＾－（Ｕ心），Ｏｓ＾－，Ｏｓ＾２－和（Ｏｓ＾２－－Ｆ＾＋）都可能是引起辐照损伤的源泉。实验发现，ＢａＦ２晶体水解处理后，ＯＨ＾－和氧离子杂质很容易进入ＢａＦ２，在晶体中的存在形式主要是：ＯＨ＾     

X射线超反射镜设计

阐述了一种新的X射线超反射镜的设计方法,它是基于经验理论公式的解析设计方法和基于计算机的数值优化设计方法相结合的产物。利用前者提供比较好的初始膜系,再利用后者对该初始膜系进行优化处理,从而获得比较好的设计结果,并大大减少了计算时间。讨论了实际制作出的多层膜存在的表面粗糙度及膜层材料间的相互扩散对多层膜反射性能的影响,并给出了模拟计算的结果。依据上述方法,在比较大的掠入射角情况下,设计出了具有较宽反射带宽的W/CX射线超反射镜。     

用X射线反射测量法表征双层结构中 低原子序数材料的特性

介绍了用X射线反射测量术表征双层薄膜中低原子序数材料特性的方法。由于低原子序数材料的光学常数与Si基板材料的光学常数非常接近,用X射线反射法确定镀制在Si基板上的低原子序数材料膜层结构的变化十分困难,因此,提出了在镀制低原子序数材料前,首先在基板上镀制一层非常薄的金属层的方法。实验中,选用Cr作为金属层材料,制备并测试了三种不同C膜镀制时间的Cr/C双层薄膜。反射率曲线拟合结果表明,C膜密度约为2.25 g/cm³,沉积速率为0.058 nm/s。     

最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响

选用能制备小周期的钨/硅(W/S i)作为膜层材料对,着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响。基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法,设计了入射光子能量为8.0keV,掠入射角的宽度分别为0.85°~1.10°,1.40°~1.70°的X射线超反射镜。结合实际实验制备技术,考虑了W/S i两种膜层材料的最小成膜厚度,确定了膜堆中最小膜层厚度为0.5nm~1.0nm。通过改变最小膜层厚度的值,优化设计了上述条件下的非周期多层膜并对其光学性能进行比较。结果表明:同一个工作波长下,随着多层膜工作角度(掠入射)的增加,膜堆中膜层的厚度减小,最小膜层厚度对其光学性能的影响增加,其光学性能变差。     

用碳气凝胶作电极材料制作双电层电容器

双电层电容器具有极大的电容量和优良的充放电性能，这种新型储能器件有着广泛的应用前景。用微结构可控的纳米多孔导电材料碳气胶作为电极制作的双电层电容器的比电容达２５Ｆ／ｇ，其内阻在１Ω以下，漏电流小于１ｍＡ。     

用于BaF2闪烁光慢成分抑制的膜系设计及制备

利用BaF2闪烁光快、慢成分处于不同波段的性质，设计出了具有特定带隙的膜系结构，用于抑制发射光谱中的慢成分。在保证快成分具有一定透过率条件下，实现了对BaF2闪烁光慢成分的全方向抑制，使晶体的快慢比得到很大提高。从膜系γ射线辐照损伤的结果可知：辐照对膜系透射带和截止带的影响不大，辐照后的膜系仍能满足抑制要求。     

X射线激光Nd，Dy,Er和Yb薄膜靶表面氧化过程的石英晶振方法研究

用电子束蒸发方法在抛光玻璃衬底上分别制备了X射线激光用的稀土元素Nd ,Dy ,Er和Yb薄膜靶。用石英晶片作为陪片 ,通过测量晶振频率的方法研究了薄膜靶在真空、干燥空气及潮湿空气等不同环境中不同阶段的氧化层增长过程。发现除Yb薄膜在淀积结束后的干燥空气和潮湿空气环境中的氧化过程遵循倒对数规律之外 ,其它所有的氧化过程均可用对数规律很好地进行拟合。淀积结束后充入大气时 ,薄膜表面的快速氧化过程仅为数分钟。在相同的环境中 ,Nd氧化速率最高 ,Er和Dy其次 ,Yb最低 ;在不同的环境中 ,Nd受环境湿度的影响最大 ,Er和Dy其次 ,Yb最低。     

超低密度二氧化硅气凝胶制备新方法

以多聚硅氧烷（ Ｅ４０）为硅源,用溶胶凝胶一步法制备了 Ｘ 光激光靶及惯性约束聚变冷冻靶用超低密度 Ｓｉ Ｏ２ 气凝胶。研究了催化剂、溶剂等对其溶胶凝胶过程的影响。制备出的气凝胶密度为５ ｋｇ·ｍ － ３。用 Ｓ Ｅ Ｍ 、 Ｂ Ｅ Ｔ 等方法对其微结构进行了研究。     

铝衰减膜表面氧化对软X光透过率的影响与修正

对用不同方法制备的软Ｘ光激光实验用的Ａｌ衰减膜样品,用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）结合氩离子束刻蚀进行了组分的表面和深度分布分析,结果表明表面氧化层主要由Ａｌ２Ｏ３组成,氧化达到饱和时的氧化层厚度≈７．５ｎｍ。由于在软Ｘ光波段内,氧的吸收系数比铝大一个多数量级,这一氧化层对软Ｘ光透过率的影响甚大。将ＡＥＳ测试结果作为参数,使用公式Ｉ＝Ｉ０·ｅｘｐ［－μ（Ｅ）·（ρｄ）］对Ｘ光透过强度进行修正。同步辐射软Ｘ光对样品透过率的直接测量表明,对于透过率大于２０％的Ａｌ膜,直接测量结果与按修正公式计算的结果在最大偏差１１％范围内符合。     

房建项目成本控制浅析

正房建项目管理是一个复杂的过程,房建施工企业的最终目标是实现最大化经济效益,成本便是最终效益的决定因素,但是企业在工程项目的成本控制方面却很薄弱。随着国家经济的快速发展,房建施工企业如何以房建项目管理为中心,提高工程质量,保证工程进度,降低项目成