大面积柔性基底TiO2/Ag/Ti/TiO2多层膜的制备及其光电和红外发射特性

利用磁控溅射在柔性基底上制备了大面积的TiO2/Ag/Ti/TiO2多层膜, 其中TiO2和Ag分别采用中频反应溅射和直流磁控溅射制备, 同时采用Ti作为过渡层, 有效地防止了在溅射最外层TiO2时对Ag膜连续性的破坏.利用紫外可见分光光度计, 四探针电阻仪, 扫描电子显微镜, 红外比辐射率测量仪对薄膜的表面形貌和光电特性进行了表征, 重点研究了不同膜层厚度对多层膜可见光透过率, 方块电阻和红外发射率的影响.结果表明, Ag层厚度对多层膜的方块电阻和红外发射率有决定性的影响, 而TiO2层厚度对此影响不大.     

普鲁士兰恒电流法沉积在聚苯胺膜上的性能表征

在ITO玻璃上分别用循环扫描伏安法和恒电流法依次沉积了聚苯胺(PANI)和普鲁士兰(PB)薄膜,对PANI和PB单层膜及复合膜的红外光谱进行了分析,讨论了3种薄膜的循环伏安曲线和紫外-可见吸收光谱.结果表明,在所选沉积条件下,制备出了电活性高的电致变色复合薄膜,600nm处的着色效率η=57.3.用钾离子掺杂的聚(2-丙稀酰胺-2-甲基丙磺酸)(PAMPS)作为离子导体,电导率σ达到8.691×10-3S/cm,组装的器件循环50次后,CV曲线变化较小,性能稳定.     

柔性衬底ITO薄膜的制备及其光电性能研究

在室温下,采用直流反应磁控溅射法,在聚酯薄膜（PEP）衬底上镀制了高性能的ITO薄膜。为了提高薄膜与基底的结合力,溅射前采用多弧离子源对PEP表面进行了等离子体清洗。研究了溅射工艺参数对ITO薄膜的光电性能和红外发射率的影响规律,探讨了ITO膜的透光和导电机理,并分析了方块电阻与红外发射率的相互关系。实验结果表明,通过等离子体清洗,ITO薄膜的结合力和光电性能都得到了改善。ITO薄膜的红外发射率和方块电阻受制备条件的影响规律具有相似之处,红外发射率随薄膜方块电阻的增大而呈增加的趋势。     

射频磁控溅射制备TiO2-xNx薄膜及其光催化特性研究

利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了透明TiO2 和 TiO2-x Nx 薄膜样品,通过 X 射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)及 UV Vis分光光度计等测试手段表征了样品的结构、形貌和光催化性能。结果表明制备的薄膜为锐钛矿相结构。随着 N2/Ar气流比的增大薄膜样品出现新的物相,吸收光谱向可见光方向展宽,在N2/Ar流量比为 3∶100 时,制备的薄膜在可见光区具有很好的光催化性能。     

厚度对室温沉积ZnO:Al薄膜光电特性的影响

利用直流磁控溅射法, 在室温玻璃衬底上制备了具有良好附着性的多晶ZnO∶ Al(ZAO)薄膜. 比较了室温下获得的薄膜与衬底加热条件下所得薄膜的结晶程度, 研究了厚度对室温条件下制备的ZAO薄膜表面形貌、电学性能及紫外-可见-近红外光区透光性的影响. 结果表明, 室温条件下制备的ZAO薄膜也具有(002)面择优取向, 随着膜厚的增加薄膜晶粒化程度提高, 载流子浓度和迁移率增大, 电阻率下降, 薄膜在紫外光区的吸收边发生红移, 在可见光区的平均透过率降低, 在近红外光区的透过率随厚度的增加而减小. 厚度为1200 nm的ZAO薄膜具有最佳光电综合性能, 其电阻率为7.315×10~(-4) Ω·cm, 方块电阻为6.1 Ω/□, 可见光区平均透过率达到82%, 波长为550 nm处的透过率为87%.     

基于磁控溅射制备纳米微晶NiO_x薄膜的方法

使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiOx电致变色薄膜.当溅射参数完全相同时,借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiOx薄膜的晶粒尺度.冷却基片所制备的NiOx薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备的薄膜,且该薄膜的O/Ni比率也明显高于室温时制备的NiOx薄膜的O/Ni比率.     

ITO／WO3／LiTaO3／NiOx／ITO全固态电致变色器件的制备及性能研究

利用磁控溅射法在不同流量的液氮低温冷却的条件下在ITO玻璃上制备WO3、LiTaO3、NiOx、ITO薄膜,5层薄膜组成ITO/WO3/LiTaO3/NiOx/ITO全固态电致变色器件.采用XRD、SEM、可见光分光光度计等测试手段进行对比分析.结果发现:低温制备的WO3薄膜为非晶态结构,在可见光范围内漂白态和着色态的平均透射率差△T可以达到70%以上.LiTaO3薄膜表面的颗粒度比较小,结构致密,其厚度对整个器件的光学性能有一定影响,在可见光范围内平均透射率达到95%.在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni2 离子参与变色反应.该器件显示出较好的电致变色特性.     

激光喷丸对TC17钛合金疲劳强度的影响北大核心CSCD

为了研究激光喷丸(LP)对TC17钛合金疲劳强度的影响,采用两次LP工艺对TC17钛合金进行了强化处理,并使用升降法测试比较了LP前后材料的疲劳强度。结果显示,LP可在TC17钛合金表面形成深度为11.7μm的微凹坑,产生的残余压应力为LP前的2.46倍。残余压应力的增大引起了裂纹源位置的变化及疲劳条带的细化,TC17钛合金的疲劳强度提高了3.9%。     

低红外发射率TiO2/AgxCU1-x/Ti/TiO2纳米多层膜

利用磁控溅射制备了银含量在100％至80％之间的单层银铜合金薄膜和TiO2／AgxCu-1x／Ti／TiO2：纳米四层膜。利用x射线衍射、扫描电子显微镜、扫描俄歇微探针，分光光度计、红外发射率测量仪对样品进行表征，研究了单层金属膜和多层膜的光学、电学性质随着银含量的变化以及热处理前后薄膜性能的变化。结果表明：相同厚度的合金膜，随着Ag含量的降低，导电性能下降，Ag含量低于80％的合金已不适合作为多层膜的金属层；1500C大气下热处理30min，纯银薄膜性质发生明显变化，明视透过率下降10％，方块电阻由2．5W／口增加至18W／□，红外发射率由0．17增加到0．69。AgCu合金薄膜性质未发生明显变化。方块电阻相近的TiO2／AgxCu1-x／Ti／TiO2纳米多层膜，经250℃大气下热处理40min后，TiO2／Ag／Ti／TiO2和TiO2／Ag80Cu20／Ti／TiO2纳米多层膜的性质变化较小，热稳定性较好，其余的多层膜性质发生较大变化，红外发射率显著增加。     

柔性基底Ti/TiO2薄膜的可见光谱及红外辐射特性研究

采用多弧离子镀法在柔性聚酰亚胺（PI）基底上制备了Ti／TiO2复合多层薄膜,通过控制基底材料的粗糙度使制备出的薄膜在可见波段具有非镜面反射效果。通过分别控制薄膜的内层和外层膜的厚度使其在8～14μm波段具有连续可调的红外发射率。采用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见-近红外光光度计等测试手段对薄膜样品进行了表征,并测试了样品的红外发射率。实验结果表明,采用多弧离子镀法成功的在PI基底上制备了结合力较好、具有多种颜色、红外发射率和方块电阻连续可调的薄膜。研究发现,在外层TiO2膜工艺不变的情况下,随着内层Ti膜厚度增加,红外发射率和方块电阻连续减小;在内层Ti膜工艺不变的情况下,随着外层TiO2膜厚度增加,红外发射率和方块电阻连续增大。