蜡染花布之今昔

真蜡染花布为我国传统产品,深受国际市场欢迎,设备投资不大,经济效益较高,具有发展前途。作者通过对我国蜡染花布今昔的回顾,对比了国外蜡染花布的生产情况,提出了我国蜡染花布发展的意见。     

三层聚乙烯外涂敷作业线生产速度的确定因素

环氧粉末的固化率是确定三层聚乙烯生产速度的重要因素，专家许传新、种志伯、程书旗等在文章中着生讲解了三层聚乙烯外涂覆生产速度的确定因素，最后就防腐生产过程中出现产问题，建议相关工作人员不要盲目提高防腐生产速度，而应该充分分析影响涂层质量的各个因素，确保涂层质量达到规范要求。     

黄土水工隧洞结构布置及其施工方法

根据黄土特性,讨论了黄土水工隧洞设计、布置和施工方法,通过工程实例阐明黄土水工隧洞设计中遇到的黄土不稳定性、湿陷及其接触带不均匀变形等问题,,也以工程实例进一步讨论了洞线布置、结构形式、衬砌材料、施工方法及工艺要求等。可供设计、施工人员参考。     

浅谈信息科技化在农村社会管理的作用

随着社会的进步和时代的发展,信息科技化已经渗透进人们生活的方方面面。在农村社会管理方面,信息科技化同样能够起到重要的作用。农村社会管理应该时时刻刻保持先进性,要与社会发展同时进步,甚至可以在一定程度上推进社会的发展。加强信息科技化在农村社会管理中的作用,可以很好的将社会管理提高到一个新的发展层面。本文重点探究信息科技化在农村社会管理的作用和发展应用效果,希望能够为推进农村社会管理提供参考。     

用离子交换树脂从氰化物溶液中提取银

本文评述了各种离子交换树脂从人工合成的氰化物溶液中提取银的能力。发现弱碱性树脂(例如DUOLITEA-7、DOWEX WGR-2、DOWEX MWA-1、DOWEX XFS-4195和AMBERLITE IRA-35)只有在pH值低于8时才能有效地提取银。当PH值较高时,这些树脂几乎不提取银。在这些弱碱性树脂中,DUOLITE A-7和DOWEX MWA-1树脂的吸附容量和淋洗效率最高。强碱性树脂(例如DOWEX MSA-1和AMBERLITE IRA-910)在pH4～12时都能提取银。当料液中只含一种金属时,这些树脂对银的吸附容量比铜、铁或锌大得多。但是,如果在氰化物料液中加入一种或几种贱金属,则银的提取率会减少,其减少的程度随接触时间而定。降低水溶液中游离氰根离子的浓度以及在树脂达到饱和点以前停止提取作业,均可使银的提取率达到最大值。     

桂林市环城水系水环境整治和通航工设计

桂林市抓住了山水名城的特征，从“水”字上做文章，对环城水系进行整治，兴建两江四湖工程，使漓江、桃花江的游船经船闸或升船机驶入中心城市的木龙湖、桂湖、榕湖和杉湖，更添山水城市独特景观。本文据作者1999－2001年在桂林参与该工程规划设计及工程实施，概要地阐述了两江四湖整治和通航设计中的主要问题，以有对环境景观的要求。这是水利工程服务城市环境的一项环境水利工程，也是新世纪水利工程的一项新课题。     

偏心换向反刮孔口平面工具在流水线上的应用

箱体零件反刮螺栓孔口平面是一项比较麻烦的工艺。1973年,我们在设计东方红24拖拉机过桥壳体零件加工流水线时,采用偏心换向机构(图1)来反刮7个螺栓孔反平面凹坑。采用这一机构后,全部加工都是机械操作,提高了生产率,改善了劳动条件。经过近六年来生产证明,该机构具有结构紧凑、零件少、维护方便、不易发生故障等优点,已在我厂其他流水线上推广。     

栅侧壁隔离层对45nm NOR闪存栅极干扰的影响

为了研究侧壁隔离层对闪存器件可靠性的影响,分别制备了Si3N4和SiO2-Si3N4-SiO2-Si3N4 (ONON)复合层作为栅侧壁隔离层的45 nm或非闪存(NOR flash)器件,对编程后、循环擦写后的闪存器进行栅极干扰的测试,讨论了不同栅侧壁隔离层对栅极干扰的影响.结果表明,虽然纯氧化硅隔离层可减少NOR自对准接触孔(SAC)刻蚀时对侧壁隔离层的损伤,但其在栅极干扰时在氧化物-氮化物-氧化物(ONO)处有更高的电场,从而在栅干扰后阈值电压变化较大,且由于在擦写操作过程中会陷入电荷,这些电荷在大的栅极电压和长时间的栅干扰作用下均会对闪存器的可靠性产生负面的影响.ONON隔离层的闪存器无可靠性失效.因此以ONON作为侧壁隔离层比以纯氮化硅作为侧壁隔离层的闪存器件具有更好的栅干扰性能.     

动态随机存储器栅极侧壁硅化钨残留的去除工艺

动态随机存储器栅极侧壁硅化钨残留造成的短路成为制约提高产品良率及可靠性的瓶颈.为此,采用X射线荧光光谱（XRF）、扫描电镜（SEM）等检测分析手段优化硅/钨原子组成比为2.45.透射电镜（TEM）及电性参数测试结果表明,经30s、1000℃快速热处理可获得方块阻值为12Ω/cm^2的硅化钨,且可刻蚀性能好.在硅化钨刻蚀前利用电子束扫描发现,15min的氢氟酸和10min浓硫酸与过氧化氢混合溶液（SPM）在300W超声波条件下的新湿法清洗工艺,能去除84.7%的表面微粒及残留聚合物.整合上述优化工艺可以将硅化钨残留造成的65nm动态随机存储器芯片失效率由31.3%降到1.9%,为研究下一代产品提供有效借鉴.     

短流程CSP生产线的产品开发

分析了短流程CSP生产线的技术特点,结合珠钢薄板坯连铸连轧生产与品种开发的实际和市场需求提出了品种开发的需要。