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RelationofDepositionConditionwithMicrostructureofYBCOFilmandYSZBuferLayeronMetalicSubstrateWangJing,LiuAnsheng,ShiDongqi,Wan... 相似文献
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高压电子显微镜的原位技术是研究金属和其他材料中晶体缺陷的一种重要的、有效的方法。本文研究了中温条件下铜中辐照缺陷的形成、演变过程,详细地介绍了所采用的缺陷分析方法。结果表明,层错环在{111}面上,为间隙型;其周界为弗兰克型不全位错,柏氏矢量(?)=a/3 <111>,这种不全位错只能在{111}面上攀移,不能滑移;当层错长到一定大小时,层错面经a/6 <112>型切变发生非层错化反应,层错消失,留下柏氏矢量(?)=a/2 <110>型的全位错。最后文中讨论了非层错化反应过程的能量。 相似文献
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MicrostructureofYBCOSuperconductingFilmonMetalSubstratewithYSZBuferLayerWangJing(王敬),LiuAnsheng(刘安生),ShiDongqi(石东奇),WangXiao... 相似文献
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为了研究失配应变的弛豫机理,利用高分辨电子显微镜(HREM)对超高真空化学气相沉积(UHVCVD) Si/SiGe-OI材料横截面的完整形貌和不同层及各层之间界面区的高分辨晶格像进行观察.发现此多层结构中存在60°位错和堆垛层错.结合Matthews和Blakeslee提出的临界厚度的模型和相关的研究结果对60°位错组态的形成和存在原因进行了分析.在具有帽层结构的Si1-xGex应变层靠近基体一侧的界面中仅存在单一位错,验证了Gosling等人的理论预测结果. 相似文献
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StudyonMagneticDomainsinSm-CoBasedAlloyLiuAnsheng,ShaoBeiling,WangXiaohuaandWangJing(刘安生)(邵贝羚)(王晓华)(王敬)(GeneralResearchInstit... 相似文献
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高强涂层结合强度的评价--楔形加载法 总被引:6,自引:0,他引:6
提出用楔形和载法评价高强度涂层材料与基体的结合强度。该方法利用楔形压头置于有楔形槽的试样中,使楔形压头中心线与涂层基体界面重合,施加静态载荷至试样沿涂层界面开裂,根据试样受力边界条件,给出涂层与基体结合强度的公式。对三种不同涂层的基体材料进行了结合强度试验。结果表明,用楔形加载法可对高强涂层与基体的结合强度进行测试,所得数据分散度与ASTMC633-79标准相同,试验数据不受非随机因素的影响。 相似文献
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