基于ARM&FPGA的玻璃刻花机控制器的设计

在分析玻璃刻花工艺的基础上,研究了以嵌入式微处理器ARM和FPGA为核心架构的玻璃刻花机控制器硬件平台,以及以Linux和Xenomai构建的实时操作系统为软件框架的软件平台。针对玻璃刻花加工对同步控制、误差补偿和加工工艺的要求,研究了相关的功能模块,完成玻璃刻花机控制器的设计开发。     

从宏观经济学的角度分析金融危机的必然性

进入2009年全球将面临着严重的经济衰退,直接原因是由美国次级贷款危机引起的世界金融危机已影响到实体经济。本文从宏观经济学的角度,特别是通过对信贷货币的扩张及康德拉捷夫周期的分析来说明此次金融危机形成的必然性。     

富马酸-丙烯酸二元共聚物的合成及应用

以富马酸(FA)与丙烯酸(AA)为原料、过硫酸钠为引发剂,采用溶液聚合法和单体滴加工艺合成了一种二元共聚物P(FA-AA).考察了原料配比、单体质量分数、引发剂质量分数、反应温度、反应时间对共聚物P(FA-AA)性能的影响因素.优选了合成工艺条件:m(AA):m(FA)=12:1,w(单体)=40%,w(引发剂)=5%,85℃,4 h,用氢氧化钠溶液中和到pH=7～8.测试了P(FA-AA)的主要性能,结果表明:共聚物P(FA-AA)的性能可以满足纺织品皂洗的要求(干摩擦牢度为4～5级,湿摩擦牢度为3级,防沾色牢度为4级).     

“产学研结合”培养工科类研究生人才

根据企业对高层次人才提出的客观要求及工科类专业应用性强的特点，对工科类研究生层次的应用型人才培养模式进行定位，提出“产学研结合”培养工科类研究生人才的模式。通过“产学研”的结合，注重联系生产实际，进一步增强研究生学习的目的性和主动性，提高研究生的实践能力和综合素质，从而达到培养高层次应用型人才的目的。     

中性银粒子和银离子在Si(111)上沉积过程的AES研究

无论是蒸发沉积、离子溅射沉积、离子束沉积还是其它类型的沉积,所沉积的薄膜的微观结构、薄膜与衬底间的界面性质与沉积粒子的性质、能量等因素密切相关。本工作利用俄歇电子能谱仪(AES)所测得的俄歇信号时间曲线(AST),俄歇的价带电子跃迁(AVV)图以及俄歇信号相对强度与沉积厚度的相互关系曲线研究和分析银蒸发束(原子、分子、原子团束)、低能(22eV)和较高能(320eV)Ag~+束在室温Si(111)衬底表面上的沉积过程和可能发生的界面反应。实验结果表明:(1) 蒸发沉积时,银在衬底表面上首先是形成均匀的原子层,接着聚集成为小岛,随后才形成为完整的薄膜;(2) 低能(22eV)Ag~+束沉积时,薄膜为均匀的层状结构,也就是说,薄膜的生长方式是以层层生长方式进行的,衬底与薄膜间的界面在所讨论的1nm范围内是未反应的;(3) 高能(320eV)Ag~+束沉积时,在沉积的初始阶段,界面上会发生严重的混杂效应,以致于形成一种银和硅的混合相结构,在此之后,界面混杂才慢慢停止,形成完整的Ag薄膜。     

基于西门子840Dsl的轧辊磨削软件开发

选择Sinumerik 840Dsl数控系统作为开发平台,以轧辊磨削作为研究对象,开发轧辊磨削系统软件。在Qt Creator跨平台的开发框架下进行GUI应用程序的开发,采用OPC UA通信技术实时获取数控机床信息,依靠MySQL数据库保存并管理得到的机床加工信息;设计全局变量,生成轧辊加工G代码程序,实现轧辊磨削加工。相较于传统软件开发方式,该方法具有开放性好、兼容性强等优点,有利于制造单元之间的互联互通,有效地解决了"信息孤岛"的问题,提高了加工效率。     

水下闸阀在水下生产系统中的应用研究

水下闸阀的基本功能是接通或切断管路介质的流通,其性能优劣直接关系到水下生产系统的可靠性和安全性。在介绍水下闸阀结构、工作原理和研究现状的基础上,对Cameron公司Ring-O系列水下闸阀、WOM公司的Magnum专利阀和LB-Bentley公司水下闸阀的应用现状做了简述。总结了水下闸阀的技术特点和设计时在材料选择方面应考虑的因素。在水下闸阀的国产化研制过程中,我国应综合国外产品的技术特点、确立从简单到复杂,从重点研究到应用研究,先克服技术问题后工艺问题的研发思路,实现水下闸阀的二次创新到自主创新。