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1.
周嘉溧 《电子制作.电脑维护与应用》2012,(8)
DCS系统(集散控制系统)做为在集中式控制系统之上发展而来的计算机控制系统,虽在多年前有人曾预测现场总线控制系统会取代DCS系统,但随着世界工业化进程推进至今,DCS仍然凭借着其管理集中、稳定性能优越、安全性突出等特点,在工业过程控制中依然占有主要位置,乃至于在石化、冶金等行业内占据主导做为主要工业过程控制方式,文章将会探讨这种被广泛应用的系统. 相似文献
2.
以MEMS红外气敏传感器为应用目标,采用MEMS技术设计和制作一种二维金属亚波长孔阵列结构红外辐射源。探讨了不同厚度SU-8膜对金属/电介质/金属(M/D/M)二维金属亚波长孔阵列结构在中远红外波段透射特性的影响。设计并制作了Au/SU-8/Au的M/D/M结构,测试采用傅里叶变换红外光谱仪器。同时对M/D/M结构不同电介质层情况下的中远红外波段透射特性进行了模拟。实验结果表明,SU-8厚度在小于1μm时,透射强度远大于厚度1μm以上的结构,且有透射强度最大值出现(SU-8厚度为360nm),同时,随着SU-8厚度的增加,透射谱峰值呈现规律性红移。 相似文献
3.
为了探索不同冷却方式对激光加工的影响,采用水、气体以及水气复合3种不同冷却方式辅助激光加工碳纤维复合材料进行了对比研究,同时采用单因素实验研究了不同工艺条件对加工质量的影响,并分析了作用机理。结果表明,在3种冷却方式下,热影响区、槽深均随着功率、频率的降低而降低,随着扫描速率的增加而降低;在相同工艺参数下,水气复合辅助激光加工产生的热影响区最小,气体辅助激光加工产生的热影响区次之,水辅助激光加工产生的热影响区最大;当激光功率为2250 W、频率为1200 Hz、速率为120 mm/s时,水、气体以及水气复合3种不同冷却方式的热影响区分别为378μm, 283μm, 196μm,槽深分别为401μm, 789μm, 647μm;采用水气复合辅助激光加工可以在加工过程中实现较好的冷热平衡,获得最好的加工质量。该研究为更好地实现碳纤维复合材料低损伤加工提供了参考。 相似文献
4.
5.
研究了一种新型的采用打印技术的NH3传感器,探讨了打印"墨水"材料聚苯胺和聚吡咯的制备和"墨水"掺酸比例对NH3传感器敏感度的影响。为了提高传感器灵敏度,分别对传感器的直流和交流阻抗特性进行了研究。结果发现在1.5 kHz左右交流阻抗的测试条件下,传感器灵敏度要较直流阻抗测试高近1个数量级。此外还通过构建1个交流阻抗拟合模型对传感器交流阻抗变化过程作了解释。研究的采用打印技术基于聚合物的NH3传感器具有成本低,可以制作在柔性衬底上和适合大规模生产等特点,在食品加工、养殖业和医疗等领域具有广泛的应用前景。 相似文献
6.
设计了正方形和正六边形圆孔阵列组成的金属/电介质光子晶体(MDPhC)来研究阵列类型对其强透射特性的影响。采用微机电(MEMS)技术制作了两种具有相同结构参数的正方形和正六边形圆孔阵列组成的金/二氧化硅/硅光子晶体,利用傅里叶变换红外光谱仪测量其反射光谱。同时,也对这两种结构进行了时域有限差分法数值模拟。理论模拟和实验测量结果均表明,与正方形圆孔阵列相比,由正六边形圆孔阵列组成的MDPhC能够获得较强的光透射增强效果和较窄的透射峰。 相似文献
7.
SDH数字微波的帧结构、映射和复用 总被引:1,自引:0,他引:1
1 前言 SDH(Synchronous Digital Hierarchy)同步数字序列是新一代数字传输网体制,它是通信容量迅速增长,光纤通信持续发展的产物。SDH应用很广泛,不仅可以用于光纤传输系统,而且在微波传输中也被大量采用。广东省广播电视技术中心于2001年建成了广 相似文献
8.
本文研究了一种埋入式MEMS(微电子机械系统)无线应变片性能的实验标定方法,通过引入一个当量应变片,遵照标准应变片的标定规定,本文设计了实用有效的实际标定步骤,分别对标准应变片和MEMS试样进行完全相同的拉伸实验,从而得到埋入MEMS应变片的应变片系数(灵敏度)为13,同时获得在实验试样的制作条件下,测量应变与实际应变之比为2。 相似文献
9.
10.
一种可直接脉冲调制的MEMS红外激发源 总被引:4,自引:1,他引:3
针对红外气体探测器对光源的要求,结合现有MEMS(微机电系统)工艺及与其兼容的IC工艺,研制了一种可用于红外多气体传感器的脉冲式MEMS辐射光源。该光源主要有Si3N4/SiO2的复合支撑层和铂金发热电极组成,可以产生相当于黑体300~800 K的红外辐射,在温度T=1 106 K时有λ=2.62 μm峰值辐射波长;并且光源有足够强的辐射强度和2~15 μm红外辐射波段,能够满足大部分气体在2~14 μm波长范围内特征的吸收谱线的要求。经过对辐射元的动态测量可知,辐射源的动态调制频率可达到50 Hz,完全能够满足气体测量对所需红外光源调制频率的要求。 相似文献