极紫外宽带多层膜反射镜离散化膜系的设计与制备

极紫外(EUV)宽带多层膜的光谱性能对膜厚控制精度要求较高,仅由时间控制膜厚的镀膜系统难以满足其精度控制要求。本文提出了基于进化算法的宽带EUV多层膜离散化膜系设计方法,与传统膜系设计相比,离散化膜系所制备多层膜具有更为优良的EUV反射光谱性能。为验证离散化膜系设计在宽带EUV多层膜研制中的优越性,采用磁控溅射方法对具有离散化膜系的宽带多层膜反射镜进行了制备和测试。测试结果表明:研制的宽角度多层膜反射镜可实现入射角带宽为0°～17°,高于41%的反射率;研制的堆栈宽角度多层膜反射镜可实现入射角带宽为0°～18.5°,高于35%的反射率;研制的宽光谱多层膜反射镜可实现波长带宽为12.9～14.9 nm,高于21%的反射率。     

X荧光在线品位分析仪在鹿鸣选矿厂中的应用

根据鹿鸣现场要求同时检测Cu、Mo元素的特点,对X荧光在线品位分析仪进行了针对性设计与改进。伊春鹿鸣选矿厂的应用实践证明,该设备运行稳定,能实时监测品位的变化,起到指导现场生产,及时稳定工艺的作用。     

引线成形中劈刀与引线拐点运动学关系研究

基于引线键合视频分解得到的图像序列,分别采用相位相关法和点到弦距离累积曲率估计算法获得了劈刀和引线拐点的运动轨迹。根据运动轨迹计算了劈刀和拐点对第一键合点的旋转角及速度变化分布,通过分析两者的旋转角和速度变化,得出了在键合过程中,劈刀和引线运动的相关性规律。由于劈刀下降段的运动是圆周运动,利用圆拟合法拟合得到了下降段劈刀和拐点轨迹圆的圆心位置,结果表明,各圆心的相对位置与引线线形存在对应关系。该方法为研究引线成形中劈刀与引线结构动态特性提供了有价值的参考。     

基于反应器的制图作业批改CAI系统研究

针对工程制图课程与计算机绘图的有机结合,以AutoCAD软件为平台,运用ObjectARX的反应器机制,研究开发了CAD制图作业批改CAI系统。该系统包括选题、初始化、监视和作业批改四大模块。学生在AutoCAD环境中练习时,系统对其解题作图过程进行实时监视,并在自动批改后给予反馈信息与相应提示。由于整合了作业练习中做作业、改作业、订正错误的三个过程,提高了学生自主学习与练习的效果和效率。     

合肥同步辐射装置U26光束线45-115nm波段高次谐波抑制系统设计

为抑制合肥同步辐射装置U26光束线掠入射单色仪真空紫外波段的高次谐波,在45-115nm波段研究了Si和Al的反射率特性,结果表明:确定的入射角下,Si和Al的反射率随波长的变化有明显的截止,截止波长随入射角减小不断变大.以Si为反射镜材料,设计了两镜高次谐波抑制系统,核心由四组两两平行的平面反射镜组成,确定了每组反射镜的最佳入射角,并给出了该装置详细的结构设计参数.对该系统的高次谐波抑制效率进行计算表明,45-115nm波段的高次谐波抑制比均大于100.     

浅析武汉建筑的历史变迁及发展前景

该文通过分析武汉历史古建筑、历史街区、近代建筑及现代建筑的特色，提出了建设武汉未来城区的建议。     

真空紫外-软X射线波段（5～105nm）探测器校准装置的研制

介绍了中国计量科学研究院在真空紫外.软X射线波段(5～105nm)探测器标准研究的新进展.介绍了建立在中国科学技术大学国家同步辐射实验室的以稀有气体电离室为标准探测器的探测器校准装置,以及利用该电离室作为基准探测器对作为传递标准探测器的硅光电二极管的量子效率测量的结果,在5～35nm范围内,相对标准不确定度为18%～20%.与NIST的结果相比,有较好的符合.     

关于内窥镜的计量检定

一、内窥镜应用过程中存在的问题 笔者在内窥镜维修和保养工作中发现许多医护人员对其只重视使用、忽视保养,并且对技术指标缺乏透彻了解,认为能满足一般诊断就行。对清晰度、发光强度、照度等技术指标要求过低,甚至为了经济效益,有些应该报废的内窥镜还在继续使用。而且在维修的过程中经常遇到维修人员在进行维修之前,发现仪器在某些方面已经存在问题且必须停用,但由于经费等原因,医院方面认为还可以使用。只做一般技术性维修,因而造成内窥镜在异态情况下工作,极易误诊甚至导致医疗事故。还有一种情况,     

几种高反膜设计新方法

现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高,具体表现在两个方面:一是要求在现有基础上进一步提高反射率,拓宽高反膜带宽,二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外~X射线。本文总结了近年来出现的一些思路独特的增反膜设计新方法,包括Needle设计法、Staggered broad-band reflecting multilayers法、Sub-quarterwave multilayers法、Layered synthetic mi-crostructure/quasi-periodic multilayers法、Layer by layer法、带阻挡层的Layer by layer法及Wide range multilayer设计法。给出了这些设计方法的思路,以真空紫外~X射线反射膜为侧重点。对增反膜设计、制作过程中尚存的一些重大问题也进行了阐述。     

不同B/C摩尔比碳化硼薄膜的光学性能

多层膜反射镜是X射线波段和极紫外波段的重要光学部件.碳化硼作为常见的反射膜材料,其薄膜成分及光学常数计算的准确性对反射镜的反射性能具有明显影响.本研究使用直流磁控溅射技术制备碳化硼薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)、X射线全反射(XRR)、原子力显微镜(AFM)和同步辐射光源等对试样进行了表征,利用改进的拟合函数拟合了基底和薄膜的反射率曲线.结果表明,非晶碳化硼薄膜的元素化学状态相同,其基本成分包含碳化硼和含氧碳化硼;在5～45 nm波段,薄膜B/C摩尔比为4.23时,反射性能最好,同时其基底与薄膜的电子密度差值最大,试样反射性能变化与试样电子密度差值变化基本一致;与原始拟合函数相比,改进的拟合函数提高了薄膜光学常数计算的准确性.