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为探讨纳米碳粉/橡胶粉复合改性沥青的性能变化、影响因素及制备工艺,采用物理性能试验确定了改性沥青的单配最佳掺量,运用正交试验法获得了不同掺量、反应时间、反应温度、剪切转速、发育温度和发育时间下纳米复合改性沥青的物理性能指标,进而借助灰关联分析法,计算出各项评价指标所占权重,将多指标转化为单指标,并结合极差和方差分析评价了纳米复合改性沥青最佳制备工艺.结果表明:纳米碳粉及橡胶粉的单配最佳掺量分别为2%和18%,改性效果均较基质沥青有所提高;各因素对沥青物理性能的影响程度依次为:复配比例>反应温度>发育时间>发育温度>反应时间>剪切转速,对比F值,得到复配比例对改性效果影响非常显著,其余因素均为显著影响;在综合评分指标下2%纳米碳粉/18%橡胶粉复合改性沥青物理性能最为优异,其最佳制备工艺为:剪切转速3500 r/min、反应温度190℃、反应时间60 min、发育温度170℃及发育时间60 min. 相似文献
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手指滑动ADS(Advanced Super Dimension Switch)液晶面板的L255画面时,由于按压导致的液晶分子形变和电场作用,滑动位置亮度会降低,表现为留下发暗的按压的痕迹。如果该痕迹在按压5 s后不能恢复,我们称之为划痕Mura(Trace Mura)。本文通过对比5种不同像素设计的液晶面板的滑动按压实验的结果,得到了像素电极设计、驱动电压对Trace Mura的影响;进一步模拟分析液晶分子状态,得到判断不同像素设计的Trace Mura风险的模拟方法。主要结论如下首先,像素电极尾部设计对于Trace Mura改善方面,弧角设计优于切角设计,切角设计优于开口设计;像素电极间距(Space)越小,Trace Mura风险越小。其次,Trace Mura需要在高灰阶电压下按压划动液晶面板才能发生;而发生Trace Mura的液晶面板,可以通过降低液晶面板的电压灰阶来消除按压痕迹。最后,对比液晶分子状态模拟结果,确认在电极末端的液晶分子方位角会发生突变(即向相反方向偏转),模拟的突变角度在-15°以上,预测有Trace Mura风险。 相似文献
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高级超维场转换技术(Advanced Super Dimension Switch,简称ADS)是以宽视角技术为代表的核心技术统称,其显示模式过大的存储电容(C_(st))成为限制Dual Gate GOA 4K TV应用的主要因素。在较短的充电时间内,像素为了维持相同的充电率,需要降低C_(st)。本文采用一种双条形电极ADS结构(Dual Slit ADS),其中像素电极与公共电极交叠区域形成ADS结构,像素电极与公共电极间隔区域形成共面转换(IPS)结构,通过减少像素电极与公共电极的交叠面积,起到降低ADS模式C_(st)的目的。模拟结果表明:当ADS显示模式采用Dual Slit ADS设计时,像素的C_(st)可以下降30%~40%。实验结果表明:采用Low Cst Pixel ADS设计时,VGH Margin可以增大2.5 V,但受到像素电极和公共电极的对位影响,透过率下降5%。 相似文献
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介绍了编织的基本原理、特点,结合几个实际的案例分析了编织理论在建筑中的应用,提出通过对编程手段的借助,建筑的参数化设计对建筑的形式、空间以及建构等方面产生了极大的影响。 相似文献
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共线三球链的碰撞动力学问题能够展示多刚体系统碰撞问题的困难之一:非唯一解的问题.本文建立了三球链碰撞的Hertz接触模型,研究对其求解的数值算法,并用有限元模型(FEM)对其进行验证,研究表明:同线性模型比较,采用Hertz接触力模拟小球之间的接触力更接近有限元计算结果;在Hertz接触模型基础上,分析碰撞过程中接触力的变化过程;研究刚度比和质量比对于碰撞结束后各个小球运动状态的影响,并研究了两种刚体模型下碰撞次序假设成立的条件. 相似文献