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自抗扰控制器在液位控制中的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
经典PID控制器由于其简单实用,在液位控制中广泛的应用。但对于涉及到工业过程控制中的一阶时滞系统来说:PID控制存在着诸多不理想因素,如环境变化等容易导致工业模型参数随之变化造成的控制不理想。为了改善其液位的控制效果并保留经典PID控制的简单实用性。提出了一种比较新型的控制方案:即自抗扰控制器(ADRC)水箱液位控制。自抗扰控制器具有模型简单,收敛速度快,精度高,参数易于调节等特点,通过建立控制系统的仿真模型,将用Z-N整定方法的PID控制与自抗扰控制进行比较,并进行了仿真对比研究。结论表明:自抗扰算法在液位控制等控制工程中是一种优秀的控制方案。 相似文献
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针对电子仪器仪表产品在腐蚀和侵蚀的流程工业现场环境下可靠工作的要求,本文提出了对电子仪器仪表产品的电子部件进行涂覆处理的生产工艺方案,研究分析了涂覆材料、生产设备、工艺参数与涂覆质量之间的关系,以指导生产出符合国家腐蚀和侵蚀环境3级标准的产品,满足仪器仪表在化工、石化等环境下的应用可靠性。 相似文献
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基于Smith预估的自抗扰控制系统 总被引:1,自引:1,他引:0
纯滞后对象一直是自动控制和计算机应用领域的一大难题.常用的PID与smith预估相结合的方法,在预估不准确的情况下,不能取得较好的控制效果;而单一的自抗扰控制器在滞后时间较大的情况下,调节时间较长.针对大滞后对象提出了自抗扰控制器与Smith预估补偿器相结合的设计方案.通过仿真对比PID配合Smith预估补偿器及单一的自抗扰控制器的控制效果,表明自抗扰控制器与Smith预估补偿器的结合有效地改善了大滞后对象的控制效果,增强了系统的鲁棒性和抗干扰能力. 相似文献
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