高铁路基边坡稳定性影响因素分析

为了研究冻融过程及各个因素对季节冻土区高铁路基边坡稳定性的影响,本文选取哈大高铁路基边坡(K691+300～K691+800)为研究对象,通过建立模型,计算了冻、融两过程对边坡稳定性的影响并确定了不同状态下边坡安全系数。分析得到:季节冻土区边坡经历一次冻、融过程后安全系数减小0.13;同时,分析了含水率、坡度、冻融循环次数及融化深度对边坡稳定性的影响,计算表明:含水率的变化对季节性冻土区边坡的稳定性影响较大,融化深度及冻融循环次数次之。由计算得到拟合公式,可为工程稳定性预估提供参考。     

雷达伺服系统结构谐振频率的测量

雷达伺服系统的结构谐振由机械传动链柔性和负载惯量引起。结构谐振频率直接影响伺服系统的带宽、稳定性、快速响应及跟踪精度。所以,实际测量伺服系统的结构谐振频率,对伺服系统有关性能的整定具有实际的指导意义。基于结构谐振频率的定义,提出了一种工程上易于实现的结构谐振频率测量方法,通过仿真、分析计算和实验证明了该方法的可行性和有效性。     

激光光谱技术在燃烧流场诊断中的应用

介绍了用于燃烧流场诊断的激光光谱技术的研究进展,叙述了相干反斯托克斯喇曼散射、自发振动喇曼散射、激光诱导荧光、分子滤波瑞利散射、可调谐二极管激光吸收光谱等技术的基本原理及其实验系统.给出并分析了激光光谱技术对预混火焰稳态燃烧场和固体燃剂瞬态燃烧场的温度、主要组分及浓度、流场密度和火焰构造测试的实验结果.实验结果表明,基...     

谈教学中运用合作探究与自主学习之我见

新课标积极提倡自主合作探究的学习方式,其中自主学习是基础。自主学习不仅仅是一种学习理念,更是一种学习方法和态度。它既要求学生主动的学习,又鼓励学生有独到的见解,敢于提出自己的看法,作出自己的判断,并要求学生用适合自己的方法和策略学习。面对同一篇课文,不同的人有不同的观察角度和解读方式。我们教师在教学中必须创造条件使课堂成为展现个性和发挥创造力的天地。作为教师要认同学生之间的差异,尊重学生的个性,使他们养成在学习上有主见,不人云亦云的习惯。     

单、双喷头细水雾对正庚烷池火灾的抑制作用

为了研究单、双喷头细水雾抑灭正庚烷池火灾的效能和机理,在半体积飞机模拟货舱中开展了单、双喷头细水雾雾滴粒径测试和抑灭20 cm 正庚烷池火灾的实验研究。结果表明,双喷头细水雾协同工作会导致雾滴之间相互碰撞发生二次破碎,有助于雾化效果的提升。通过对燃料表面温度、火焰区平均温度和舱内氧气浓度的测量和计算,对比分析了单、双喷头细水雾抑灭火的主导机理。结果表明,单喷头细水雾灭火的平均时间为283.14 s,耗水量约为3.54 L,燃料表面冷却是其抑灭火的主导机理。双喷头细水雾灭火的平均时间为212.22 s,耗水量约为5.31L,火焰冷却是其抑灭火的主导机理。     

中药泡饮及器皿选择

中药泡饮作为一种简便易行的常规治疗手段在逐步的被患者和医院、医药企业所接受,很多中药生产企业开始尝试生产中药颗粒,以取代经过浸出、提取、浓缩、干燥等众多加工程序的制剂,解决中药制剂在加工环节易被污染、价格高的问题,更为患者提供了一种纯天然、无加工、使用方便、疗效突出的中药产品,本文就中药泡饮、中药泡饮器皿的选择做进一步阐述。     

精密机械设计实验教学改革

分析了精密机械设计实验教学环节中存在的问题，运用现代化教学手段和管理方法，基于虚拟仿真技术实验教学方式，重构“多层次、系统化”实验教学体系，完善学生考评制度等，更好地为高校课程教学和人才培养服务。     

RFID标签引脚阻抗的建模与计算

射频识别(RFID)标签的封装中,芯片与天线靠各向异性导电胶(ACA)连接。ACA的性质导致了芯片的引脚与天线连接处会有较大的阻抗,影响了标签的电参数,会对标签读写距离产生不利的影响。分析了芯片引脚处阻抗对标签的电性能的影响,对该处电阻与寄生电容进行了建模和计算。最后,依据理论计算了一款天线的引脚阻抗,并据此对该天线进行了优化与测试,验证了理论的正确性。     

2-甲氧基丙烯生产中有关体系的共沸点研究

利用基于精馏原理的加压共沸点测定装置，测定了2-甲氧基丙烯(MPP)与甲醇或丙酮二元体系在减压、常压及加压条件下的共沸点数据，并对数据进行了关联。从关联的结果可知，该体系共沸组成与共沸温度、压力的对数及共沸温度的倒数均呈良好的线性关系，计算结果与实验值符合良好。随着压力的降低，这两个二元体系中MPP的含量都增加，说明在减压条件下更利于MPP的分离和提纯。特别是MPP-丙酮体系，在49．7kPa下，其MPP的摩尔分数已达到0．997。这项研究为MPP工业化过程中共沸混合物的分离、提纯，以及共沸精馏、反应精馏等工艺与装置的研究与设计提供了重要的基础数据和参考依据。     

化学气相沉积铜薄膜研究进展

本文综术了集成电路工艺的Cu布线中Cu薄膜化学气相沉积(CVD)的研究背景,详细介绍了CVD生长Cu金属薄膜的国内外研究进展及CVD对前趋物的要求,并对前趋物的一些物理、化学性质进行了总结,最后,对薄膜沉积的计算机摸拟作了简要介绍。