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1.
In this study, dilute chemical bath deposition technique has been used to deposit CdZnS thin films on soda-lime glass substrates. The structural, morphological, optoelectronic properties of as-grown films have been investigated as a function of different Zn2+ precursor concentrations. The X-ray diffractogram of CdS thin-film reveals a peak corresponding to (002) plane with wurtzite structure, and the peak shift has been observed with the increase of the Zn2+ concentration upon formation of CdZnS thin film. From morphological studies, it has been revealed that the diluted chemical bath deposition technique provides homogeneous distribution of film on the substrate even at a lower concentration of Zn2+. Optical characterization has shown that the transparency of the film is influenced by Zn2+ concentration and when the Zn2+ concentration is varied from 0 M to 0.0256 M, bandgap values of resulting films range from 2.42 eV to 3.90 eV while. Furthermore, electrical properties have shown that with increasing zinc concentration the resistivity of the film increases. Finally, numerical simulation validates and suggests that CdZnS buffer layer with composition of 0.0032 M Zn2+ concentration would be a promising candidate in CIGS solar cell.  相似文献   
2.
在45钢表面电刷镀得到三价铬镀层,镀液组成和工艺条件为:Cr2(SO4)36H2O 0.4 mol/L,甲酸铵0.5 mol/L,氨基乙酸0.5 mol/L,H3BO30.6 mol/L,NaH2PO2 H2O 0.3 mol/L,pH=1.5,温度50°C,镀笔移动速率15 cm/s。研究了电压对镀铬层显微结构、表面粗糙度、厚度、显微硬度和耐磨性的影响。随电压增大,镀层厚度增大,显微硬度和耐磨性均先提高后降低。电压为14 V时,镀层的表面平整,粗糙度为2.387μm,显微硬度为602 HV,耐磨性最好。  相似文献   
3.
This work demonstrates a facile Nb2O5-decorated electrocatalyst to prepare cost-effective Ni–Fe–P–Nb2O5/NF and compared HER & OER performance in alkaline media. The prepared electrocatalyst presented an outstanding electrocatalytic performance towards hydrogen evolution reaction, which required a quite low overpotential of 39.05 mV at the current density of ?10 mA cm?2 in 1 M KOH electrolyte. Moreover, the Ni–Fe–P–Nb2O5/NF catalyst also has excellent oxygen evolution efficiency, which needs only 322 mV to reach the current density of 50 mA cm?2. Furthermore, its electrocatalytic performance towards overall water splitting worked as both cathode and anode achieved a quite low potential of 1.56 V (10 mA cm?2).  相似文献   
4.
李中望 《电镀与涂饰》2021,40(4):269-273
针对电镀液温度控制系统,引入状态反馈控制。相对于传统的反馈控制,本方法可以获得更优异的性能。另外,考虑到镀液温度控制具有纯迟延的特点,提出了一种消去纯迟延的方法。仿真验证结果显示,控制效果良好。  相似文献   
5.
Based on the voltage and current fluctuating phenomenon in the arc plasma load under the negative-pulse-bias, usingthe plasma physics theory and analysis of computer simulation expatiates that the nature of plasma load in vacuumarc plasma is a capacitance  相似文献   
6.
陶瓷表面化学镀的前处理工艺新进展   总被引:9,自引:1,他引:8  
综述了非金属表面化学镀前处理工艺的现状和发展,对陶瓷化学镀的粗化和活化工艺的新进展进行了评述,侧重讨论了离子型、胶体钯型、浆料型、分子自组装吸附钯型、贱金属型活化工艺特点和进展,并展望了今后发展方向。  相似文献   
7.
TiN coatings were deposited on polished substrates of W18Cr4V high speed steel by means of vacuum arc ion plating. The effect of cerium on adhesion between TiN coating and substrate was studied. The microstructures and composition of TiN coatings were also investigated by means of scanning electron microscope (SEM), Auger electron spectroscopy (AES), and X-ray diffraction (XRD) technique. It was found that cerium is an effective modifying agent and the addition of suitable amount of cerium to TiN coatings can produce relatively excellent properties such as micro-hardness, wear resistance, oxidation resistance and porosity. The experimental results show that the added cerium in TiN coatings makesa contribution to form the preferred direction along with a (111 ) or (222) close packed face, which may be one of the reasons that improves some properties mentioned above.  相似文献   
8.
化学镀Ni-P合金/TiO2复合膜的耐蚀性研究   总被引:8,自引:1,他引:7  
在改进常规制备方法的基础上,提出化学镀/溶胶-凝胶复合法在碳钢表面制备TiO2复合膜的新技术。用衍射研究了复合膜的组织形态,采用环境扫描电镜(ESEM)表征了复合膜的表观和断面形貌,用极化电阻、阳极极化曲线测量等方法研究TiO2复合膜在0.5mol/L硫酸和0.5mol/L氯化钠溶液中的耐蚀性能。结果表明A3钢表面的TiO2复合膜耐蚀性能优良。  相似文献   
9.
采用X射线光电子能谱(XPS)对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析。研究结果表明,Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜,而钨的氧化作用远大于镍,Ni-W合金镀层中W含量的提高对耐蚀性起决定作用。  相似文献   
10.
采用X射线衍射分析技术,研究了脉冲化学镀非晶态Ni-P合金的原子分布和函数,得出其短程有序原子集团的尺度为0.754nm,约为熔体激冷法获得的非晶态Ni-P合金短程有序畴的1/2。并利用脉冲化学沉积非晶态合金的微机制择这一结果进行了解释。  相似文献   
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