全文获取类型
| 收费全文 | 1063篇 |
| 免费 | 22篇 |
| 国内免费 | 86篇 |
专业分类
| 电工技术 | 29篇 |
| 综合类 | 31篇 |
| 化学工业 | 66篇 |
| 金属工艺 | 68篇 |
| 机械仪表 | 114篇 |
| 建筑科学 | 14篇 |
| 矿业工程 | 4篇 |
| 能源动力 | 43篇 |
| 轻工业 | 13篇 |
| 水利工程 | 1篇 |
| 石油天然气 | 1篇 |
| 武器工业 | 4篇 |
| 无线电 | 572篇 |
| 一般工业技术 | 120篇 |
| 冶金工业 | 43篇 |
| 原子能技术 | 5篇 |
| 自动化技术 | 43篇 |
出版年
| 2024年 | 5篇 |
| 2023年 | 15篇 |
| 2022年 | 8篇 |
| 2021年 | 10篇 |
| 2020年 | 12篇 |
| 2019年 | 7篇 |
| 2018年 | 8篇 |
| 2017年 | 11篇 |
| 2016年 | 16篇 |
| 2015年 | 17篇 |
| 2014年 | 34篇 |
| 2013年 | 49篇 |
| 2012年 | 53篇 |
| 2011年 | 94篇 |
| 2010年 | 60篇 |
| 2009年 | 57篇 |
| 2008年 | 82篇 |
| 2007年 | 57篇 |
| 2006年 | 68篇 |
| 2005年 | 52篇 |
| 2004年 | 66篇 |
| 2003年 | 52篇 |
| 2002年 | 29篇 |
| 2001年 | 18篇 |
| 2000年 | 26篇 |
| 1999年 | 22篇 |
| 1998年 | 29篇 |
| 1997年 | 21篇 |
| 1996年 | 27篇 |
| 1995年 | 34篇 |
| 1994年 | 17篇 |
| 1993年 | 22篇 |
| 1992年 | 18篇 |
| 1991年 | 34篇 |
| 1990年 | 18篇 |
| 1989年 | 20篇 |
| 1986年 | 1篇 |
| 1985年 | 1篇 |
| 1981年 | 1篇 |
排序方式： 共有1171条查询结果，搜索用时 218 毫秒
1.
2.
具有RHEED在线监控功能的超高真空CVD系统及3″硅片低温外延研究 总被引：3，自引：1，他引：2
本文报道了自己研制的一台超高真空化学汽相溶积系统，本底真空达１０＾－７Ｐａ。该系统配有反射高能电子衍射仪，可对衬底表面清洁状况、外延层厚度等进行在线监控。 相似文献
3.
本文研究了一种新的、具有实际应用价值的硅片吸除技术．该技术包括利用ＰＥＣＶＤ法在腐蚀硅片背面沉积４００～８００ｎｍ厚的非晶硅膜，再经过６５０～６８０℃温度的热处理，使沉积膜与硅片结合更牢固，之后，把硅片进行抛光．结果表明，该技术能有效地消除硅抛光片表面的雾缺陷，同时硅片表面层少子寿命可提高２～４倍． 相似文献
4.
5.
6.
7.
8.
9.
胡才雄 《有色金属材料与工程》1994,15(1):31-36
本文介绍了硅片背面的三种主要损伤吸除技术：机械损伤、激光辐照和离子注入技术。对这三种吸除技术的机理、工艺条件、应用情况和近来进展，作了详细的评述。 相似文献
10.