新型高K栅介质ZrO2薄膜材料的制备及表征

采用超高真空电子束蒸发法制备了新型高 K栅介质-非晶 ZrO2薄膜. X射线光电子能谱 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 对应的结合能分别为 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式为 Zr4+,说明薄膜由完全氧化的 ZrO2组成 ,并且纵向分布均一.扩展电阻法( SRP)显示 ZrO2薄膜的 电阻率在 108Ω@ cm以上,通过高分辨率透射电镜( HR- XTEM)可以观察 ZrO2/Si界面陡直,没有 界面反应产物 ,证明 600℃快速退火后 ZrO2薄膜是非晶结构.原子力显微镜( AFM)表征了薄膜的 表面粗糙度,所有样品表面都很平整,其中 600℃快速退火样品 (RTA)的 RMS为 0.480nm.     

基于FPGA技术的以太网远程网桥的实现

如何适应以太网 (FTTB +LAN)接入网的发展是宽带城域网建设中迫切需要解决的问题。文章介绍了采用Altera公司的ACEX系列器件 ,配以异步SRAM ,完成了具有可变比特率特性的以太网数据流和适合传统电信链路传输的具有固定比特率特性的E1数据流之间的相互转换 ,实现了以太网至城域骨干网的接入 ,并给出了转换模块中 4 / 16位变换器和SRAM接口模块的算法设计流程图     

随机激光器的最新进展

综述了近年来随机激光器的最新研究结果，包括随机激光产生的机制，随机增益介质的制备方法，随机激光器的激励与发光特性和随机激光理论。最后，介绍了随机激光器的应用前景。     

慧眼察细节——谈桌面激光打印初选购要点

激光打印机经过几年的快速发展，现在中小企业和SOHO用户已经是桌面黑白激打的主要用户群体，不同的产品性能、服务以及价位的组合将适应企业用户不同应用环境的需要。以目前的打印需求看，作为该领域内的高性能需求用户，主要着眼点集中在打印质量的一流     

Ca掺杂钨镁酸铅陶瓷材料的制备及其介电性能

研究了Ca掺杂钨镁酸铅(PMW)陶瓷材料的合成、结构、烧结以及介电性能。结果发现：在Ca^2 摩尔分数小于15％时，能形成单相的PCMW钙铁矿相，结构由原来的斜方相向立方相转变。用二步合成法制备的样品容易致密烧结，气孔率比一步法制备的样品小。Ca的加入降低了材料的介电损耗，在频率为1MHz时，介质损耗达到了10^-4。当Ca^2 摩尔分数大于10％时，材料的Curie峰宽化显著，介电常数温度系数降低。     

利用入射角度抗辐射干扰

理论和初步实验证明，利用电磁波相对于介质片的入射角度可以较好地抑制辐射干扰。对于平行极化波，当入射角θ＝ａｒｃ ｓｉｎ√ε２／（ε１＋ε）２时可以穿过介质片，而对于垂直极化波则只有极少部分能量穿过。     

柴油机工作介质及使用

要想使柴油机更好工作，对其工作介质－柴油，润油油，冷却液，一定要有充分认识。文章较详尽介绍了它们的特点，选用等，很为具体，可作为建设机械广大用户及设计者参考。     

新型高k栅介质材料研究进展

随着半导体技术的不断发展，MOSFET（metal-oxide-semiconductor field effect transistor）的特征尺寸不断缩小，栅介质等效氧化物厚度已小至nm数量级。这时电子的直接隧穿效应将非常显著，将严重影响器件的稳定性和可靠性。因此需要寻找新型高k介质材料，能够在保持和增大栅极电容的同时，使介质层仍保持足够的物理厚度来限制隧穿效应的影响。本文综述了研究高k栅介质材料的意义；MOS栅介质的要求；主要新型高k栅介质材料的最新研究动态；展望了高k介质材料今后发展的主要趋势和需要解决的问题。