第十二讲:真空工艺

2.1.3 离子轰击除气(上接2003年第4期第66页) 利用离子源或空间辉光放电而产生的气体离子轰击被除气的表面,使吸附在材料表面层的污染物(吸附气体、氧化物等)发生溅射作用而分解解吸出来.由于重离子的溅射作用比较强烈,因此常将惰性气体离化作为轰击离子.用于离子轰击除气的离子能量一般为200～1000 eV.     

辐照损伤对锆合金电化学性能的影响

综述了堆内辐照对锆合金电化学性能影响的概况，浅析了堆内辐照损伤的机理，并重点探讨了主要的堆内辐照源——中子辐照对锆合金微观结构与氧化性能的影响。进一步阐述了堆外离子轰击模拟堆内中子辐照研究方法的进展概况，并就离子轰击实验参量的选择进行了较为深入的分析。     

钪系阴极基体的研究

采用氧化钪与钨机械混合、氧化钨与钪盐水溶液固液掺杂法制备了氧化钪-钨基体，采用扫描电镜及原位俄歇电子能谱方法研究了基体中钪的分布及阴极基体的抗离子轰击性能。结果表明，采用液固法制备的烧结体，氧化钪分布均匀，这样的结构有利于钪的扩散和补充，原位俄歇轰击实验结果表明，阴极基体具有良好的耐高温和耐离子轰击性。     

等离子体化学气相沉积反应中对温度因素的控制

采用了外加热式直流等离子体化学气相沉积及渗金属工艺并在放电工件上直接测温的方法，克服了离子轰击加热引起的温度不均匀等因素并且膜的结构及力学性能得以改善。     

离子轰击膏剂渗硼试验

通过增加辅助阴极,提高无附加热源的离子渗氮炉的升温速度和使用温度,以满足离子渗硼的需要,对以硼铁为供硼剂的渗硼膏剂进行试验,选出在本试验条件下的最佳渗硼膏剂。利用此膏剂,对45钢在850℃×3h条件下进行离子渗硼,得到180μm厚的渗硼层。     

清洗工艺对GH4099蜂窝夹层结构钎焊性能的影响

目的 研究激光清洗和离子轰击对GH4099蜂窝夹层结构钎焊性能的影响,优化GH4099蜂窝夹层结构焊前清洗工艺。方法 分别用400#砂纸、不同激光功率(60~200 W)、不同离子轰击时间(1~2 h)对GH4099带材表面进行了砂纸打磨、激光清洗和离子轰击试验,分析了激光清洗和离子轰击对GH4099表面形貌、O元素含量、BNi2钎料润湿性的影响,测试了不同清洗工艺下蜂窝夹层结构钎焊接头的拉伸性能。结果 随激光功率从60 W增加到100 W,GH4099表面O含量逐渐降低,表面粗糙度逐渐增大,钎料润湿面积百分比增加到83.5%,润湿性增加。当激光功率大于100 W时,表面残留网状分布的氧化物,导致钎料润湿性降低。当激光功率进一步增加到200 W时,氧化物网状分布现象减轻,润湿性随之增加,粗糙度也有所降低;随离子轰击时间从1 h增加到2 h时,带材表面氧化皮逐渐去除干净,钎料润湿性随之增加,钎料对离子轰击2 h的表面的润湿面积百分比达到91.2%,与400#砂纸打磨的相当。经离子轰击2 h、1 020 ℃-15 min钎焊获得的夹层结构等效抗拉强度为11.9 MPa。结论 与激光清洗相比,离子轰击可以同时去除蜂窝型面及附近侧壁部分的氧化皮,能更有效地改善钎料对蜂窝基体的润湿性。     

特大型轴承深层离子渗碳新工艺

主要介绍用离子氮化炉改造成的离子渗碳多用炉进行 2 0 Cr2 Ni4A钢特大型冶金轴承圈深层离子渗碳的新工艺研究及生产应用结果     

微波等离子体法沉积镍膜的研究

采用微波等离子镀膜机制备镍薄膜.该方法的特点是用纯金属镍为靶,用微波产生等离子体,用交流电源作为轰击电源,远程输运.使用XRD、SEM、EDS对采用微波等离子法沉积的薄膜进行表征,对实验结果进行分析,并对镀膜工艺进行了初步探索.     

宽光谱窄带隙微晶硅锗太阳电池研究

采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,制备了高锗含量(原子百分含量)的氢化微晶硅锗(μc-Si1-x Gex:H)材料。通过锗含量、拉曼光谱、吸收系数以及电导率测试,研究了不同离子轰击条件下μc-Si1-xGex:H薄膜的结构及光电性能。在高离子轰击条件下制备的高锗含量的μc-Si1-xGex:H薄膜显示,锗的掺入速度有所降低,晶化率和吸收系数较高且光敏性明显提高;本征层锗含量x=77%的μc-Si1-xGex:H太阳电池的量子效率在长波段显著增强且光谱响应拓展至1 300nm,此时电池效率达到3.16%。