首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     


High Temperature Thermal Conductivity of Amorphous Al2O3 Thin Films Grown by Low Temperature ALD
Authors:Andrea Cappella  Jean‐Luc Battaglia  Vincent Schick  Andrzej Kusiak  Alessio Lamperti  Claudia Wiemer  Bruno Hay
Affiliation:1. Université de Bordeaux, Institut de Mécanique et d'Ingénierie de Bordeaux I, , 33405 Talence, France;2. Laboratoire National de Métrologie et d'Essais, LNE, , 78197 Trappes, France;3. Laboratorio MDM, IMM‐CNR, , 20864 Agrate Brianza (MB), Italy
Abstract:
Keywords:ALD  amorphous alumina  modulated photothermal radiometry  thermal conductivity
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号