| 靶面化合物覆盖度的计算方法研究 |
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| 引用本文： | 陶甫廷,王敬义,等.靶面化合物覆盖度的计算方法研究[J].稀有金属材料与工程,2003,32(1):13-17. |
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| 作者姓名： | 陶甫廷 王敬义 |
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| 作者单位： | 1. 广西工学院,广西,柳州,545006
2. 华中科技大学,湖北,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(19874022) |
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| 摘 要： | 由溅射速率方程和反应粒子输运方程得出了靶面化合物的覆盖度。所有方程都用反应室结构参数和宏观参数表示，文中还给出了溅射沉积TiN薄膜的计算结果，结果表明与实验数相吻合，所建立的方法便于工艺优化的实施，属新的工程方法。
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| 关 键 词： | 靶面化合物 覆盖度 计算方法 反应溅射 靶中毒 反应粒子 陶瓷薄膜 氮化钛 |
| 文章编号： | 1002-185X(2003)01-0013-05 |
| 修稿时间： | 2001年11月1日 |
Calculation Method for the Compound Fraction of Target Surface |
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| Tao Futing,Wang Jingyi,He Xiaoming,Wang Yu.Calculation Method for the Compound Fraction of Target Surface[J].Rare Metal Materials and Engineering,2003,32(1):13-17. |
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| Authors: | Tao Futing Wang Jingyi He Xiaoming Wang Yu |
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| Abstract: | The compound fraction of target surface was gotten from the rate equation s of sputtering and the transport equations of reactive particles .All of these equations are expressed by the constructional parameters of the chamber and macroscopic technology parameters.The calculating results from the TiN thin films deposited by reactive sputtering are well fit with the experim ental data.The methodes pro-vided in this paper will be benefit to the implementation of technology op timum as a new engineering methodes. |
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| Keywords: | reactive sputtering target poison ing reactive particles |
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