| 溅射羟基磷灰石薄膜与钛合金基体结合强度的研究 |
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| 引用本文： | 陈民芳,由臣,王玉红,孙永昌.溅射羟基磷灰石薄膜与钛合金基体结合强度的研究[J].新技术新工艺,2004(1):35-36. |
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| 作者姓名： | 陈民芳 由臣 王玉红 孙永昌 |
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| 作者单位： | 天津理工学院材料系,300191 |
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| 基金项目： | 天津市自然科学基金 ( 0 2 36 15 311)，天津市高等学校科技发展基金 ( 0 1- 2 0 2 15 ) |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法，在Ti-6Al-4V合金基体上制备了羟基磷灰石(HA)及HA和TiO2复合薄膜。通过显微压入法及粘结拉伸法，定量及定性分析了涂层与基体之间的结合强度，重点探讨了涂层在热处理前后结合强度的变化规律。结果表明，几种材料膜-基结合强度均达到15～20MPa，完全满足生物涂层材料的使用性能要求。
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| 关 键 词： | 羟基磷灰石薄膜 水蒸气处理 结合强度 钛合金 射频磁控溅射 |
Study on Bonding Strength between Sputtering Hydroxyapatie Film and Tiatnium Alloy |
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