| 用KrF准分子脉冲激光在低基板温度下制备AlN薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 赵强,范正修,WANGMingli,Kyung-KuYOON,Jae-GuKIM,Seong-KukLEE,Kyung-HyunWHANG. 用KrF准分子脉冲激光在低基板温度下制备AlN薄膜的研究[J]. 功能材料, 2000, 0(Z1) |
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| 作者姓名： | 赵强 范正修 WANGMingli Kyung-KuYOON Jae-GuKIM Seong-KukLEE Kyung-HyunWHANG |
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| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所!上海201800，中国科学院上海光学精密机械研究所!上海201800，KoreaInstituteofMachinery&Materials!Taejon，305-343，Korea，KoreaInstituteofMachinery&Materials!Taejon，305-343，Korea，KoreaInstituteofMachinery&Materials!Taejon，305-343，Ko |
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| 摘 要： | 用KrF准分子脉冲激光在 2 0 0℃的Si(111)基板上通过改变制备条件 ,采用沉积后直接保温处理的方式制备出了具有不同择优取向的AlN薄膜 ,并得出了较高的处理温度和过长的时间不利于AlN相的形成的结论。
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| 关 键 词： | KrF准分子脉冲激光 激光沉积 AlN薄膜 |
Study on Deposition of AlN Thin Films at Low Substrate Temperature with KrF Excimer Pulsed Laser |
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| ZHAO Qiang ,FAN Zhengxiu ,WANG Mingli ,Kyung-Ku YOON ,Jae-Gu KIM ,Seong-Kuk LEE ,Kyung-Hyun WHANG. Study on Deposition of AlN Thin Films at Low Substrate Temperature with KrF Excimer Pulsed Laser[J]. Journal of Functional Materials, 2000, 0(Z1) |
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| Authors: | ZHAO Qiang FAN Zhengxiu WANG Mingli Kyung-Ku YOON Jae-Gu KIM Seong-Kuk LEE Kyung-Hyun WHANG |
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| Affiliation: | ZHAO Qiang 1,FAN Zhengxiu 1,WANG Mingli 2,Kyung-Ku YOON 2,Jae-Gu KIM 2,Seong-Kuk LEE 2,Kyung-Hyun WHANG 2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | KrF excimer pulsed laser laser deposition AlN thin films |
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