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| 磁控溅射a—Si／Ni多层膜的研究 | |
| 引用本文： | 张硕,虎志明.磁控溅射a—Si／Ni多层膜的研究[J].电子显微学报,1997,16(4):407-408. |
| 作者姓名： | 张硕 虎志明 |
| 作者单位： | 云南大学物理系，云南民族学院物理系 |
| 摘 要： | 利用超高真空多靶磁控溅射设备制备ａ－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜，经ＸＰＳ和Ｒａｍａｎ谱的分析研究表明；在所取工艺条件下制备的ａ－Ｓｉ／Ｎｉ我层膜为周期性的成份调制结构，以特殊的表面电极结构，讨论了ａ－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜的横向光电效应与周期结构参数的关系。 |
| 关 键 词： | 非晶半导体 金属超晶格 磁控溅射 半导体薄膜 |
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