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Mo/SiO2软X射线多层膜的结构研究
引用本文:王凤平,崔明启.Mo/SiO2软X射线多层膜的结构研究[J].电子显微学报,1997,16(4):545-546.
作者姓名:王凤平  崔明启
作者单位:北京科技大学材料物理系,中国科学院高能物理研究所同步辐射室
摘    要:本文用磁控射方法制备了几种Mo/SiO2多层膜。在北京同步辐射装置(BSRF)的衍射站上测量了其氏角X射线衍射(XRD)谱,并利用基于光学动力学理论的递推公式对低角X射线衍射谱进行了拟合,定量分析了膜层的周期结构和界面度以及界面度与层数、层厚的关系。同时用高分辩电子显微镜(HREM)对一样品的截面进行了观察。

关 键 词:软X射线光学  磁控溅射  薄膜  结构
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