非晶态硅的TED和TEM的研究 |
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引用本文: | 林鸿溢.非晶态硅的TED和TEM的研究[J].电子显微学报,1984(4). |
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作者姓名: | 林鸿溢 |
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作者单位: | 北京工业学院电子工程系 |
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摘 要: | 一、引言近年来,非晶态物质的制备和物性研究已受到广泛的重视,大量的研究结果表明,非晶态物质具有许多优异的特性。已经在非晶态半导体、非晶态磁性材料、非晶态超导体、非晶态金属合金等材料中取得了令人注目的进展。在前一工作的基础上,我们利用高分辨率透射电子显微镜(TEM)对非晶态硅(a—Si:H,a—Si:Cl)薄膜样品进行研究,观测到薄膜样品中的原子团(atom cluster)和微结构,并探讨了其生长机理。二、实验我们采用射频辉光放电(RFGD)方法,使SiH_4(或SiCl_4)气体在射频场作用下离解,产生等离子体,通过
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