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| TiN/NbN纳米多层薄膜的交变应力场和超硬效应 | |
| 引用本文： | 赖倩茜,虞晓江,戴嘉维,李戈扬,宁兆元.TiN/NbN纳米多层薄膜的交变应力场和超硬效应[J].真空科学与技术学报,2002,22(4):313-316. |
| 作者姓名： | 赖倩茜 虞晓江 戴嘉维 李戈扬 宁兆元 |
| 作者单位： | 1. 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030 2. 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;苏州大学薄膜材料重点实验室,苏州,215006 3. 苏州大学薄膜材料重点实验室,苏州,215006 |
| 摘 要： | 为了研究纳米多层薄膜的超硬效应 ,采用反应溅射法制备从 1 4nm至 2 7nm不同调制周期的一系列TiN/NbN纳米多层膜。高分辨电子显微镜对薄膜的调制结构和界面生长方式的观察发现 ,TiN/NbN膜具有很好的调制结构 ,并呈现以面心立方晶体结构穿过调制界面外延生长的多晶超晶格结构特征。显微硬度测量表明 ,TiN/NbN纳米多层膜存在随调制周期变化的超硬效应。薄膜在调制周期为 8 3nm时达到HK39 0GPa的最高硬度。分析认为 ,两种不同晶格常数的晶体外延生长形成的交变应力场 ,对材料有强化作用 ,这是TiN/NbN纳米多层膜产生超硬效应的主要原因 |
| 关 键 词： | TiN/NbN超晶格薄膜 调制结构 超硬度 交变应力场 |
| 文章编号： | 0253-9748(2002)04-0313-04 |
| 修稿时间： | 2002年1月6日 |
Alternating Stress Field and Superhardness Effect in TiN/NbN Nano-Multilayers |
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| Lai Qianxi ,Yu Xiaojiang ,Dai Jiawei ,Li Geyang ,Ning Zhaoyuan .State Key Lab.of MMCs,Shanghai Jiao Tong University,Shanghai,China .Key Laboratory of Thin Film Materials,Soochow University,Suzhou,China.Alternating Stress Field and Superhardness Effect in TiN/NbN Nano-Multilayers[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2002,22(4):313-316. | |
| Authors: | Lai Qianxi Yu Xiaojiang Dai Jiawei Li Geyang Ning Zhaoyuan State Key Labof MMCs Shanghai Jiao Tong University Shanghai China Key Laboratory of Thin Film Materials Soochow University Suzhou China |
| Affiliation: | Lai Qianxi 1,Yu Xiaojiang 1,Dai Jiawei 1,Li Geyang 1,2,Ning Zhaoyuan 21.State Key Lab.of MMCs,Shanghai Jiao Tong University,Shanghai,200030,China 2.Key Laboratory of Thin Film Materials,Soochow University,Suzhou,215006,China |
| Abstract: | |
| Keywords: | TiN/NbN multilayers Modulation structure Superhardness Alternating stress field |
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