| VHF-PECVD制备微晶硅材料的均匀性及其结构特性的分析 |
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| 引用本文： | 张晓丹,高艳涛,赵颖,朱锋,魏长春,孙建,耿新华,熊绍珍.VHF-PECVD制备微晶硅材料的均匀性及其结构特性的分析[J].液晶与显示,2005,20(2):99-102. |
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| 作者姓名： | 张晓丹 高艳涛 赵颖 朱锋 魏长春 孙建 耿新华 熊绍珍 |
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| 作者单位： | 光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071 |
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| 基金项目： | 国家“973”重大基础研究发展规划项目(No.G2000028202,G2000028203)，教育部资助项目(No.02167)，国际合作项目(No.2002DFG00051)，“863”重大项目(No.2002303261) |
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| 摘 要： | 采用VHF-PECVD技术在多功能系统(cluster tool)中制备了系列硅薄膜，研究薄膜的均匀性及电学特性和结构特性。结果表明：气压和功率的合理匹配对薄膜的均匀性有很大的影响；材料的喇曼测试和电学测试结果表明微晶硅薄膜存在着纵向的结构不均匀，在将材料应用于器件上时，必须要考虑优化合适的工艺条件；硅烷浓度大，相应制备薄膜的晶化程度减弱，即薄膜中非晶成分增多。
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| 关 键 词： | 微晶硅薄膜 薄膜均匀性 晶化率 |
| 文章编号： | 1007-2780(2005)02-0099-04 |
| 修稿时间： | 2004年9月29日 |
Analysis of Uniformity and Structural Properties of Microcrystalline Silicon Films Deposited by VHF-PECVD |
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| ZHANG Xiao-dan,GAO Yan-tao,ZHAO Ying,ZHU Feng,WEI Chang-chun,SUN Jian,GENG Xin-hua,XIONG Shao-zhen.Analysis of Uniformity and Structural Properties of Microcrystalline Silicon Films Deposited by VHF-PECVD[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2005,20(2):99-102. |
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| Authors: | ZHANG Xiao-dan GAO Yan-tao ZHAO Ying ZHU Feng WEI Chang-chun SUN Jian GENG Xin-hua XIONG Shao-zhen |
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| Abstract: | Study was focused on uniformity, electronic and structural properties of series of silicon thin films fabricated by cluster tool system. It proved that reasonable matching of discharge power and pressure has a great influence on uniformity of thin film. Microcrystalline silicon thin film exists non uniformity along the growth direction, it is necessary to select suitable parameters for its application in devices. Crystalline volume fraction ( X c) of thin film decreased with the increase of silane concentration( SC ), it corresponds with the increase of amorphous fraction. |
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| Keywords: | microcrystalline silicon thin film uniformity of thin film crystalline volume fraction |
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