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| 四氟化硅气体中杂质的检测及净化研究进展 | |
| 作者单位： | ;1.贵州大学化学与化工学院;2.贵州理工学院化学工程学院 |
| 摘 要： | 介绍了四氟化硅气体中杂质的4种检测方法:气相色谱法、红外光谱法、气相色谱质谱法、原子发射光谱法。其中,气相色谱法一般用来测定四氟化硅气体中的烃类杂质,红外光谱法主要用来测定四氟化硅气体中的氟硅烷、氟氧硅烷、氟硅醇杂质。气相色谱质谱法用来测定四氟化硅气体中的六氟化硫杂质,原子发射光谱法主要用来测定四氟化硅气体中的金属杂质。然后对四氟化硅气体的不同净化方法进行列举,并对净化工艺的条件、优缺点进行了阐述。 |
| 关 键 词： | 四氟化硅 杂质检测 杂质净化 |
Progress in detection and purification of impurities in silicon tetrafluoride gas |
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