| 喇曼光谱研究硅烷体积分数对Si薄膜结构影响 |
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| 引用本文： | 张乾,高杨,张建新,阎殿然,安雪川,张志彬,王师.喇曼光谱研究硅烷体积分数对Si薄膜结构影响[J].半导体技术,2009,34(2). |
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| 作者姓名： | 张乾 高杨 张建新 阎殿然 安雪川 张志彬 王师 |
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| 作者单位： | 河北工业大学材料科学与工程学院,天津,300000 |
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| 摘 要： | 采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在一定射频功率、衬底温度和气压下,在普通玻璃衬底上制备了不同硅烷体积分数的Si薄膜材料.使用喇曼光谱对薄膜材料的结构进行了研究.结果表明,随着硅烷体积分数的降低,Si薄膜沉积速率将会逐渐降低.当硅烷体积分数降到2%时,喇曼光谱检测到出现对应的晶体Si的吸收峰,而最初的非晶吸收峰位逐渐减弱.Si薄膜的结构实现了由非晶向微晶转变.随着硅烷体积分数进一步降低,结晶率不断提高,微晶比例进一步扩大.
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| 关 键 词： | 等离子体增强化学气相沉积 硅薄膜 喇曼光谱 玻璃封底 硅烷 |
Study on the Influence of Silane Volume Fraction on the Structure of Si Thin Films Using Raman Spectra |
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| Zhang Qian,Gao Yang,Zhang Jianxin,Yan Dianran,An Xuechuan,Zhang Zhibin,Wang Shi.Study on the Influence of Silane Volume Fraction on the Structure of Si Thin Films Using Raman Spectra[J].Semiconductor Technology,2009,34(2). |
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| Authors: | Zhang Qian Gao Yang Zhang Jianxin Yan Dianran An Xuechuan Zhang Zhibin Wang Shi |
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| Affiliation: | School of Material Science & Engineering;Hebei University of Technology;Tianjin 300000;China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PECVD silicon thin film Raman spectra glass substrate silane |
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