| 面向微加工的虚拟光刻系统建模与实现 |
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| 引用本文： | 孙广毅,赵新,卢桂章.面向微加工的虚拟光刻系统建模与实现[J].高技术通讯,2009,19(1). |
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| 作者姓名： | 孙广毅 赵新 卢桂章 |
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| 作者单位： | 南开大学机器人与信息自动化研究所,天津,300071 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，国家高技术研究发展计划(863计划)，教育部新世纪优秀人才支持计划，天津市应用基础及前沿技术研究计划重点项目，南开大学科技创新基金 |
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| 摘 要： | 提出了一种面向微加工的虚拟光刻系统Litho3D.该系统采用傅立叶光学成像模型、光刻胶曝光及显影模型,实现了投影式光学光刻的三维模拟.它拥有标准的GDSII、CIF版图格式接口和支持各种光学参数(包括数值孔径、波长、离焦量,光刻胶厚度、表面折射率等)的模拟设置.模拟结果的显示采用了体绘制与网格相结合的方法,增强了结果的可视性.此外,光刻模拟结果可以直接导入到虚拟工艺系统ZProcess中作为刻蚀工艺的掩膜输入,实现了光刻工艺与其他微机电系统(MEMS)工艺模拟的无缝集成.一系列模拟结果验证了该系统的可行性.
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| 关 键 词： | 微加工 光刻 虚拟工艺 工艺模拟 |
Modeling and implementation of a virtual lithography system for micromachines |
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| Sun Guangyi,Zhao Xin,Lu Guizhang.Modeling and implementation of a virtual lithography system for micromachines[J].High Technology Letters,2009,19(1). |
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| Authors: | Sun Guangyi Zhao Xin Lu Guizhang |
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| Affiliation: | Sun Guangyi,Zhao Xin,Lu Guizhang(Institute of Robotics and Automatic Information System,Tianjin 300071) |
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| Abstract: | This paper proposes the Litho3D, a virtual lithography system for micromachines. The system utilizes a Fourier optics imaging model, a photoresist exposuring model, and a development model to simulate the projective optical lithography. Also, the system supports the input of GDSII and CIF format layout, and permits the interactive configuration of simulation parameter, including numerical aperture, wavelength, defoeus, photoresist thickness, and surface reflection. The visualization of simulated results is ... |
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| Keywords: | micromachining lithography virtual process process simulation |
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