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| 热壁低压化学汽相淀积设备的使用与维修 | |
| 引用本文： | 程开富.热壁低压化学汽相淀积设备的使用与维修[J].电子工业专用设备,1998(1). |
| 作者姓名： | 程开富 |
| 作者单位： | 重庆光电技术研究所 |
| 摘 要： | 文章就热壁低压化学汽相淀积（ＨＷＬＰＣＶＤ）设备使用过程中常见的故障现象及维修谈一点体会。 |
| 关 键 词： | HWLPCVD 真空泵 真空计 流量计 多晶硅 氮化硅 半导体光电器件 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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