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| 器件技术和系统应用是未来IC设计的推动力 | |
| 作者姓名： | RaulCamposano |
| 作者单位： | Synopsys公司 博士CTO |
| 摘 要： | 本文中展望了IC设计的未来，分析了推动IC设计发展的主要因素以及需要克服的问题。文章通过讲述掩膜生成、前端和后端制造在电子设计自动化(EDA)和可制造设计(DFM)方面的话题，阐明了来源于系统级要求的设计流程。 |
| 关 键 词： | IC 设计 集成电路 器件技术 系统应用 互连线技术 |
Device Technology and System Applications Driving the Future of IC Design |
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| RaulCamposano.Device Technology and System Applications Driving the Future of IC Design[J].Electronic Design & Application World,2003(8):8-9,17. | |
| Authors: | Raul Camposano |
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